恒量模式、自动控制曝光时间、自动对准等功能为工业参数优化提供了更好的支持。此外,MA/BA 4 代还配置了高质量的光学系统 MO Exposure Optics,曝光条件更优异。先进的机制使校准精度更高。采用上、下面显微镜单元(TSA和BSA)设计方式,不再像TSA显微镜那样需要大距离移动,从而避免了震动。
实验室及小批量生产用小型 光刻机平台 苏斯公司的 MA/BA 4 代系列是最新一代的半自动光刻和键合对准机,并引进了新的平台系统。新平台主要是配置不同。它由标准款 MA/BA 4 代与用于先进高端工艺的扩展 MA/BA 4 代专业款组成。 基础款有 MA/BA6 4 代和 MA/BA8 4 代两种。此掩模和键合对准机的设计...
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型号 MA/BA Gen4 Series 用途范围 光刻 种类 有掩膜半自动光刻机 自动化程度 自动 是否自动 是 可售卖地 全国 装箱数 1 发货地 青岛 品牌 SUSS MicroTec(德国 苏斯微技术公司) 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格...
产品名称: 二手翻新光刻机 产地: 青岛 晶圆尺寸: 200mm 产能AutoAL: 130wph 规格: 可定制 真空压力: <0.2MPa 允许晶圆形变量: 1mm 预校精准度: <50μm 吞吐量MF: 160wph 价格说明 价格:商品在平台的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选...
发货地 江苏苏州 商品类型 机械设备 、 行业专用设备 、 其他行业专用设备 商品关键词 SUSS、 光刻机MA8 商品图片 商品参数 加工定制: 否 机身尺寸: 2000*1509*1405mm 产品名称: 二手翻新光刻机 产地: 青岛 晶圆尺寸: 200mm 产能AutoAL: 130wph 规格: 可定制 真空压力: <0.2MPa 允许晶圆形...
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光刻领域:纳米压印技术可以作为光刻技术的补充或替代方案,实现多重曝光和降低光刻胶使用量,从而进一步降低制造成本和提高生产效率。平板显示:在平板显示领域,纳米压印技术可以实现高分辨率的纳米尺度平板显示,提高对比度和亮度,并推动柔性显示技术的发展。柔性电子:...
接近接触式光刻机具有设备结构相对简单、工作效率高、工艺适应性强等优点,但也存在分辨力低、曝光图形质量差、工艺一致性差等缺点。④投影式光刻机的工作原理类似于照相机。它采用投影式的工作方式,掩模与基片不再相互接触,极大地避免了对掩模或基片的损伤,而且可...