靶面水平磁场的分布是构成圆形平面磁控溅射靶源的关键，一般要求最大水平磁场为200～400Gs，最佳值为300Gs。我们用CT—5型直流高斯计测量了靶面水平磁场的分布，其结果如图3所示，磁场强度310Gs，为最佳值。靶电压、靶电流随氩气压的变化关系如图4，图5所示。3.2 氩气压强对放电电压及靶电流的影响 调整靶基距离为...
浙江台州靶源科技有限责任公司成立于2020年12月16日,位于浙江省台州市黄岩区北城街道站西大道51号(自主申报),目前处于注销状态,经营范围包括一般项目:资源再生利用技术研发;电力行业高效节能技术研发;电子专用材料研发;新材料技术研发;常用有色金属冶炼;金属材料制造(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营...
X射线源由于能量较高能够同时激发样品中多个原子轨道的光电子，最强的光电子峰是谱图中强度最大，峰宽...
靶源性的作用方式 靶源性，即对神经元具有营养作用的营养因子不是由神经细胞自身合成分泌，而是由受它支配的组织分泌后，沿神经末梢逆行转运至神经元胞体，来发挥营养作用的。百度上搜的，你看行不行，反正我是没看懂。满意望采纳，谢谢！
X射线源由于能量较高能够同时激发样品中多个原子轨道的光电子，最强的光电子峰是谱图中强度最大，峰宽...
车玉思目前担任河南致同资材新材料科技中心(有限合伙)法定代表人,同时担任浙江台州靶源科技有限责任公司监事;二、车玉思投资情况:车玉思间接持股河南空天新材料研究院有限公司、投资占比达0.22%,郑州轻研合金科技有限公司、投资占比达0.22%;三、车玉思的商业合作伙伴:基于公开数据展示,车玉思目前有10个商业合作伙伴,...
801系列DLC 低温镀膜机是沈阳爱科斯科技有限公司自主研发的类金刚石涂层镀机,采用独有的离子源和平面直流溅射靶源的技术。DLC 涂层的性能介于金刚石与石墨之间,表现为质量稳定与基材结合力好,既具有较高的硬度,同时又具有优异的摩擦性、良好的抗...
Z靶≦Z样+1 靶材选择的其他因素 靶材在工作过程中，输入的电能90%以上转化为热量 所以靶材的的散热性...
磁控溅射靶源-真空组件 我司提供的磁控溅射源是目前一和超高真空系统(1e-11torr)匹配的商业用溅射源。 在不配置弹性垫圈的结构中,可烘烤至250℃。在匹配的超高真空环境下,可以实现超高纯度的溅射沉积。 详细介绍 磁控溅射靶源-真空组件 我司提供的磁控溅射源是目前一和超高真空系统(1e-11torr)匹配的商业用溅射...
用于软X射线探测器标定的X射线二次多靶源 第44卷第5期2021年5月 核技术 NUCLEAR TECHNIQUES V ol.44，No.5 May2021 050402-1 用于软X射线探测器标定的X射线 二次多靶源 祝宇轩1,2王于仨1陈勇1崔苇苇1王昊1张子良1王皓迪2侯懂杰1 赵晓帆1虞年1,3赵子健1陈灿1 1（中国科学院高能物理研究所北京100049）...