坤兴源靶材是指用于物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、磁控溅射等工艺的靶材。坤兴源靶材具有高纯度、高均匀性、高密度等特点,可以满足半导体、光电子等领域对材料性能的要求。 二、坤兴源靶材的特点 1.高纯度:坤兴源靶...
镍铁合金靶材通常具有良好的物理和化学性能。在物理性质方面，它具备一定的硬度、强度和良好的导电性、导热...
物理气相沉积(PVD):生长物质从靶材中被转移、并沉积到基板上形成薄膜的过程,不存在化学反应。化学气相沉积(CVD):挥发性化合物材料与其它气体进行化学反应,生成非挥发性固体,沉积于基板之上的过程。___PVD特点:物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用...
熔铸法制备的靶材成本相对较低，但缺点是金属内部可能会有气泡和不均匀性，这对最终的薄膜质量有影响。
物理气相沉积(PVD):生长物质从靶材中被转移、并沉积到基板上形成薄膜的过程,不存在化学反应。 化学气相沉积(CVD):挥发性化合物材料与其它气体进行化学反应,生成非挥发性固体,沉积于基板之上的过程。 ___ PVD特点:物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛...