1971年，平面阴极的发明使镀膜的溅射速率远远超过了从前的方法。同时，溅射镀膜优越于蒸发镀膜的另一个重大进步是其可以向任何方向溅射。浮法玻璃可以很容易的在驱动辊上水平移动，但是当玻璃如此移动时蒸发镀膜无法向下移动。然而，溅射更容易向下进行。1975年，第一个用于汽车顶棚的溅射玻璃生产线投入批量生产。该系统由...
阴极溅射法是用情性气体的正离子表击阴极固体材料，所溅出的中性原子或分也在玻璃村底上而成薄膜。两个电极安装在真空室内,其中用镀膜材料制成阴极靶,衬底支架为阳极,在其上置放待镀膜玻璃，此支架可加热或冷却。在溅射过程中，材料的溅蚀量完全由离子冲撞固体材料的上层晶格原子的动量传递所确定。阴极溅射法镀膜...
用荷能粒子轰击某一靶材(阴极)使靶材表层原子以一定的能量逸出，然后在基材表面沉积成膜的过程称为溅射沉积镀膜。和真空蒸镀一样，溅射沉积也需要在真空中进行。靶是一平板，由被沉积材料组成。一般将它和电源负极连接(阴极)。真空室容器中充人气体作为媒介，使辉光放电得以起动和维持。最常用的气体是氩气。此外,系统...
阴极溅射室 阴极溅射室是一种测定固体试样的特殊原一r化器。简介 将试样车成空心棒状体，作为队极密封于两端为光窗的金属圆筒中，充人惰性气休.阴、阳极之间加电压60(?}'、电流60mA放电，使试样原子化。其放电原理与空心阴极灯相同。
阴极溅射是通过在真空环境中使用离子束轰击金属阴极,使阴极表面的原子溅射到靶材上,并在靶材表面形成薄膜。整个过程涉及多个重要的步骤。 1. 阴极溅射需要在高真空环境下进行,以避免气体分子与靶材碰撞或阴极表面氧化反应。通常使用反应室或真空舱来实现所需真空度。 2. 通常使用高能离子束轰击金属阴极,以剥离阴极表面...
为了减少阴极溅射,可以从以下几个方面入手: 1. 优化阴极材料:选择具有高抗溅射性能的材料作为阴极,如某些特定的金属合金,能够有效抵抗高能电子的撞击,减少材料被击出的可能性。 2. 降低放电电压:通过合理调整激光器的放电电压,可以减少电子的能量,从而降低其对阴极的撞击力,进而减...
阴极溅射法镀膜设备的关键部件包括真空室、靶材、基片和溅射电源。在溅射过程中,首先将真空室抽至一定的真空度,然后通入适量的惰性气体(如氩气)。在溅射电源的作用下,惰性气体原子被电离成带正电的离子和带负电的电子,形成等离子体。这些高能离子在电场的作用下加速轰击靶材,使靶材原子...
(1)阴极靶材溅射能量阀值是指将靶材原子溅射出来所须的入射(即轰击) 离子的最小能量值; (2)当入射离子的能量低于溅射阀值时,虽然可以见到等离子体发出的较 强辉光,但是不会发生靶材原子溅射逸出现象; (3)溅射能量阀值与入射离子质量无明显依赖关系,但不同的工作气体对 靶材溅射能量阀值会产生一定影响。 (4)不同...
阴极溅射法镀膜是一种广泛应用于材料表面改性的技术,它通过在真空环境中利用高能粒子轰击靶材,使靶材原子被溅射出来并沉积在基材表面形成膜层。这种技术具有多个显著特点,但同时也存在一些被误解或非其本身的特性。 一、阴极溅射法镀膜的主要特点 膜层与基材的结合力强:由于溅射出的原子具有较高的能量,它们能够与基材...