抗冲击和磨损：在溅射过程中，靶材会受到高能粒子的连续轰击，因此需要具备足够的机械强度和硬度来抵抗冲击和磨损。高强度和高硬度的靶材能够延长使用寿命，减少更换频率，降低生产成本。例如，钛和钛合金靶材以其高强度和耐磨性在航空航天和生物医学领域得到广泛应用。综上，靶材的物理性能在很大程度上决定了溅射过程的稳...
综上所述,磁控溅射技术对靶材的要求包括高纯度、良好的均匀性、适当的密度和结晶结构,以及与溅射工艺的兼容性。选择合适的靶材是制备高质量薄膜的关键步骤,需要综合考虑多种因素以确保溅射效果和薄膜性能达到最佳状态。 以上内容来自河北天域大观文化传媒有限公司 店铺热推 店铺好货 精选产品 查看详情 ￥589.0...
5. 表面光洁度:靶材的表面要具有较高的光洁度,表面粗糙度要小于1纳米。 三、磁控溅射靶材的制备技术 目前,制备磁控溅射靶材主要有以下几种技术: 1. 粉末冶金法:将高纯度的粉末按一定比例和工艺要求混合,再通过压制、烧结等工艺制备出靶材。 2. 熔化法:将高纯度的金属放入真空室中进行...
在磁控溅射工艺中,靶材的安放位置对薄膜质量至关重要。首先,需确保靶材与基底保持恰当距离,通常5-10厘米为宜,以保证薄膜沉积的均匀稳定。其次,要合理调整靶材的旋转角度,一般建议在10-50度范围内,以避免薄膜表面粗糙或成分不均。再者,磁场的均匀分布也极为关键,需根据实际情况精细调整,防止薄膜出现裂纹或粗糙度增加。
金属靶的话，靶面和背板要平整，两者之间要绝缘，靶材和mask之间也要绝缘，金属的纯度要高
如果靶材是磁性的，它自身的磁场可以干扰到设备内部的磁场配置。这种干扰可能导致等离子体密度不均匀或溅射...
因此,磁控溅射仪对靶材的要求主要包括以下几个方面: 1.材料性质 材料的纯度、晶体结构、机械性能、热稳定性、化学惰性、磁性等都会影响溅射过程和溅射膜的质量。因此,在选择靶材时,需要考虑材料性质是否适合磁控溅射工艺。 2.尺寸和形状 靶材的形状和尺寸直接影响磁控溅射的均匀性和效率。通常,靶材需要具备一定的...
一般来说,靶材制备需要保持良好的化学纯度,避免杂质对溅射过程的影响。此外,靶材的表面光洁度需要尽可能的高,这可以减小靶材表面的缺陷和粗糙度,提高溅射效率和膜的质量。 综上所述,磁控溅射对靶材的要求是非常苛刻的,需要综合考虑材料的化学、物理和结构因素;选择适合的尺寸;并优化靶材的制备和表面处理。这些要求...
改善思路：选用好的膜料、充分预溶、控制速率。改善对策：㈠ 选择杂质少的膜料 ㈡ 对易飞溅的膜料...