磁控溅射(magnetron-sputtering)是70年代迅速发展起来的一种“高速低温溅射技术”。磁控溅射是在阴极靶的表面上方形成一个正交电磁场。当溅射产生的二次电子在阴极位降区内被加速为高能电子后,并不直接飞向阳极,而是在正交电磁场作用下作来回振荡的近似摆线的运动。高能电子不断与气体分子发生碰撞并向后者转移能量,使...
磁控溅射技术 免费编辑 添加义项名 B 添加义项 ?所属类别 : 其他 磁控溅射原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的...
它主要用于无机和有机薄膜制备,这是由冷却通道技术和室温技术支持的。磁控溅射技术可用于制备压电,磁性,光学,光电,绝缘,热电和磁性薄膜等功能的材料。 磁控溅射技术的基本原理是利用一个电磁场来极化溅射流体中的粒子,这样就可以保证溅射流体中的粒子被准确地导向衬底表面,有效控制薄膜的厚度,表面形貌和发射谱。它主要...
磁控溅射技术是一种将原子或分子能量值降低,使其出现球形高电荷状态,再以特殊的磁场配合电磁场,使之发出离子流,再将其射向待涂层物体表面,从而形成薄膜的一种物理沉积技术。磁控溅射通常使用氩气或其它气体作为原料,采用高频电源充电,直流源来作用在特殊的磁场之中,形成电磁场作用于放电管内,使空气中的氩气分子离子化...
磁控溅射技术的发展,使材料上的厚度、表面粗糙度等得到极大的提高,并为材料及元器件的性能及应用提供了新的材料、新的技术。 磁控溅射技术主要有以下八个主要步骤: 1、清洗:通过机械清洗、热清洗或化学清洗来清除材料表面的杂质和污染物; 2、表面准备:将材料表面处理为清洁的表面,以满足磁控溅射技术的要求; 3、...
三、磁控溅射技术的分类: (一)磁控溅射按照电源的不同,可以分为直流磁控溅射(DC)和射频磁控溅射(RF)。 顾名思义,直流磁控溅射运用的是直流电源,射频磁控溅射运用的是交流电源(射频属于交流范畴,频率是13.56MHz。我们平常的生活中用电频率为50Hz)。 两种方式的用途不太一样,直流磁控溅射一般用于导电型(如金属)靶材...
三、磁控溅射技术的分类: (一)磁控溅射按照电源的不同,可以分为直流磁控溅射(DC)和射频磁控溅射(RF)。 顾名思义,直流磁控溅射运用的是直流电源,射频磁控溅射运用的是交流电源(射频属于交流范畴,频率是13.56MHz。我们平常的生活中用电频率为50Hz)。 两种方式的用途不太一样,直流磁控溅射一般用于导电型(如金属)靶材...
总之,磁控溅射技术就是利用电磁场来控制真空腔体内气体“异常辉光放电”中离子、电子的运动轨迹及分布状况的溅射镀膜的工艺过程。 2、产生磁控溅射的三个条件 磁控气体放电进而引起溅射,必须满足三个必要而充分的条件: (1)第一,具有合适的放电气体压强P:直流或脉冲中频磁控放电,大约在0. 1 Pa~10Pa左右),典型值为...
该技术是基于半导体表面放电原理,通过磁场控制机构,利用低功耗高频电流从模拟电源,从而产生来自放电点的溅射。 磁控溅射技术的溅射比传统的激光刻蚀技术具有更多的优势,如灵活性高、机械结构简单、成本低廉、运行灵敏度高、确保模板准确性能高等优点。磁控溅射技术的控制简单,开关电源可以在不同的工艺步骤精确控制可变的放电...