6、配制H2SO4：H2O2=4：1溶液，将硅片用石英舟乘载放入，浸煮15分钟。热去离子水清洗，后换冷去离子水清洗。7、将硅片置于HF溶液（HF︰H2O=1︰1）中浸泡30秒，取出后冲去离子水15分钟。用溶液（NH4OH︰H2O2︰H2O=1︰1︰5）煮沸清洗：先把烧杯中去离子水加热至85℃，倒入相应比例的NH4OH和H2O2溶液，煮15...
硅片清洗剂广泛应用于光伏，电子等行业硅片清洗；由于硅片在运输过程中会有所污染，表面洁净度不是很高，对即将进行的腐蚀与刻蚀产生很大的影响，所以首先要对硅片表面进行一系列的清洗操作。清洗的一般思路首先是去除表面的有机沾污，然后溶解氧化膜，因为氧化层是“沾污陷进”，会引起外延缺陷；再去除颗粒、金属等，...
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机械清洗是使用力量和物理方法来清洗硅片的一种方法。通常会使用超声波清洗、喷淋清洗、刷洗等方式来去除硅片上的杂质。与其他清洗方法相比,机械清洗可以快速、高效地清除硅片表面和表层所附着的许多污染物。但是,机械清洗也会对硅片表面造成一定的损伤,因此在选择此种清洗方法时需要谨慎。 二、化学清洗 化学清洗是利用...
在硅晶体管和集成电路生产中,几乎每道工序都有硅片清洗的问题,硅片清洗的好坏对器件性能有严重的影响,处理不当,可能使全部硅片报废,做不出管子来,或者制造出来的器件性能低劣,稳定性和可靠性很差。硅片清洗法不管是对于从硅片加工的人,还是对于从事半导体器件生产的人来说都有着重要的意义。
下面将详细介绍硅片清洗的步骤和方法。 一、去除有机污染物 1. 酸洗:将硅片浸泡在稀酸溶液中,如氢氟酸、硝酸等,以去除有机污染物。酸洗可以将有机物氧化并去除,但需要注意控制酸浓度和浸泡时间,以免对硅片造成损害。 2. 碱洗:将硅片浸泡在强碱溶液中,如氢氧化钠溶液,以去除酸洗过程中残留的酸性物质和有机污染...
一、清洗方法选择 硅片表面的氧化层会对器件性能产生很大的影响,因此清洗硅片表面的氧化层是制备硅片器件过程中必须要做的一步。下面介绍几种常见的清洗方法。 1. 碱性清洗 碱性清洗适用于表面积为100平方厘米以下的硅片,能够有效地去除表面的氧化层和有机污染物。清洗方法为将硅片放入碱性清洗液中浸泡,然后...