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在硅基材料中,硅–氧–硅(Si-O-Si)键是最常见的化学键,硅基材料的红外谱线主要与Si-O-Si键的振动有关。 硅基材料中常见的红外吸收峰包括硅氧拉伸振动峰、硅氧弯曲振动峰和氢氧振动峰等。硅氧拉伸振动峰一般位于1000 ~ 1200 cm-1范围内,是硅基材料的典型红外吸收特征。硅氧弯曲振动峰一般位于400 ~ 800 cm...
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由于不同的基团对不同波长的红外光存在特征吸收,那么通过不同的吸收峰便可对应出不同基团。TS-1的FT-IR的谱图如图所示,在波数400～1600 cm-1之间出现六个明显的特征吸收峰,分别在450、550、800、960、1100、1225cm-1处。450cm-1处的特征峰归属于硅氧键的弯曲振动,550cm-1处的特征峰归属于分子筛骨架中二级...
称为硅氧键吸收峰。这些峰对应于二氧化硅结构中硅原子与氧原子之间的振动。另外，还存在位于800-1000cm^...
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