1. 化学气相沉积法 化学气相沉积法是利用化学反应在高温下将石墨烯层层生长到基板上的方法,常用的前驱体有甲烷、乙烯等。该方法制备的石墨烯薄膜表面平整、颗粒较小,但是成本较高。 2. 物理气相沉积法 物理气相沉积法是利用高温下将石墨烯薄膜生长在金属基板上的方法,是一种无需前驱体的...
专利摘要显示，本申请提供一种石墨烯薄膜及其制备方法、电子器件，该制备方法包括在第一基底的第一表面上形成图案化的第二基底，第一基底的溶碳度小于相同温度下第二基底的溶碳度；在第一基底的第二表面上形成石墨烯薄膜，其中，第二表面与第一表面分别位于第一基底相对的两侧上；石墨烯薄膜包括第一石墨烯薄膜和第...
利用其辅助天然石墨液相剥离制得石墨烯分散液,获得由该共聚物非共价但稳固修饰的低缺陷石墨烯,进一步通过真空抽滤使所得石墨烯取向,同时使所述共聚物在石墨烯表面原位结晶,可成功制得具有优秀力学性能,同时兼具形状记忆和各向异性导热功能的石墨...
石墨烯高分子复合薄膜的制备主要通过将石墨烯与高分子材料进行有效复合。常见的制备方法包括溶液共混法、熔融共混法和原位聚合法等。这些方法旨在实现石墨烯在高分子基体中的均匀分散,从而得到性能优异的复合薄膜。 二、石墨烯高分子复合薄膜的性能 由于石墨...
CVD法已成为石墨烯薄膜制备的关键技术。它利用高温和辅助气体的作用，使碳源发生裂解，形成碳基碎片。随后，这些碎片在基体上通过重排，最终形成高质量、尺寸可控的石墨烯薄膜。这一方法不仅具有出色的表面光滑度，还利于大规模生产，从而易于实现生产规模化和成本效益。此外，CVD法还能直接产出石墨烯薄膜，为石墨烯的...
为了解决这一问题,原本在航空领域使用的石墨烯导热薄膜开始被应用于高端电子产品的制造中。尽管现有的石墨烯薄膜制备方法能够生产出具有高热导性的材料,但这些方法往往需要在高温下长时间处理,导致能源消耗大且生产成本高。因此,研究者们正在探索如微...
此外，石墨烯单晶畴还可以用于构筑柔性透明导电薄膜、超级电容器、锂离子电池等能源器件以及传感器等。这些应用不仅展示了石墨烯单晶畴的广阔前景，也为我们进一步研究和开发新型石墨烯基材料提供了有力支持。综上所述，石墨烯薄膜可以制备出高质量的单晶畴，这得益于先进的制备技术和精确的表征手段。未来，随着石墨烯...
迄今为止, 石墨烯的制备方法主要有机械剥离法、液相剥离法、碳化硅外延法、化学气相沉积法 (Chemical vapor deposition,CVD)等。其中, CVD法制备的石墨烯薄膜,尤其是在铜等金属衬底上生长的石墨烯薄膜,具有质量高和可控性好的优点,越发受到科学界和产业界的关注。近年来,CVD法已被广泛用于实验室乃至工业规模 的大面...
物理法制备石墨烯薄膜的主要步骤包括将石墨烯粉和氧化铜、氢氧化钠等反应物混合,通过加热和压融的方式生成石墨烯薄膜。这种方法制备的石墨烯薄膜质量较高,但成本较高。 2.化学法 化学法制备石墨烯薄膜的主要步骤包括将石墨烯粉和氧化铜、氯化锌等反应物混合,通过溶剂化、溶胶-凝胶法等方法将石墨烯制成薄膜。这种方...