利用真空溅镀的原理,在真空条件下利用高速电子束对金属材料进行轰击,使其原子或离子在基片上沉积出所需的厚度和性能的薄膜。 电子束轰击金属材料时,与材料发生作用的是高能电子(带负电),而不是材料表面所具有的正离子(带正电)。所以在轰击金属材料时,发生轰击的束流所携带的能量必须大于被轰击的金属材料表面所能...
真空濺鍍的原理 •主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的...
一、真空溅镀机原理 真空镀膜是借助高能粒子轰击所产生的动量交换,把镀膜材料的原子从固体(靶)表面撞出并放射出来。放在靶前面的基材拦截溅射出来的原子流,后者凝聚并形成镀层。轰击粒子一般是重惰性气体离子,最常用的是氩。镀层物质变成蒸气相是通过一原子规模的机械过程(动量交换)需在真空仓内的均匀磁电场内实现,通...
真空镀膜机溅镀是以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击资料外表,使其溅射出进入气相,可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快,以Cu,Au,Ag等最高,Ti,Mo,Ta,W等最低。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电(glow discharge)发生,在10-1—10 Pa...
溅镀,一般指的是磁控溅镀,归入髙速超低温溅镀法.该专业技能恳求真空值在1×10-3Torr摆弄,即1.3×10-3Pa的真空泵情况充进懒散汽体氩气(Ar),并在PVD电镀件(阳极氧化)和金属材料靶材(阴极)中间再加髙压交流电,由于辉光放电...
水镀与真空镀的价格差异主要体现在成本上，水镀由于其工艺相对简单，成本较低，因此价格也较为亲民，而真空镀则因其设备复杂、技术要求高，因此价格偏高。相比之下，溅镀的价格则与真空镀接近。在特点方面，水镀虽然成本较低，但其环保性相对较差，且色彩选择较少，常见的如亮银色和枪色。而真空镀则因...
怎么说呢，太多太复杂，简单的说：水镀价格便宜真空镀价格高，溅镀和真空镀差不多，特点：水镀貌似不环保，颜色相对较少，亮银，枪色比较多，真空镀是靠涂料色素来做，环保，颜色多，主要镀膜VM/NCVM,但是镀膜的膜层不算稳定，溅镀就很稳定，可以镀薄镀厚，这个要说有很多的，只是简单的说说。
溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,电浆 中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面,这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄 膜。 一般来说,利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点:(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。(2)再适 当的...