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电弧离子镀膜是一种利用电弧放电产生的离子束来沉积材料的方法。在离子束轰击下,材料表面的原子被剥离并沉积到底材表面上。这种方法可以制备出高质量、高硬度和高耐磨性的镀层。 二、实验条件和实验结果 为了控制材料的厚度和质量,实验条件必须精确控制。实验室通常使用高真空条件下的离子镀膜设备。在设备中,通过调节离...
电弧离子镀膜悬架,作为一种先进的镀膜技术,其核心原理基于真空弧光放电理论。该技术通过特定的装置产生电弧放电,利用电弧产生的高能离子对物体表面进行轰击,从而使镀膜材料蒸发并沉积在物体表面,形成一层均匀、致密的膜层。 一、电弧离子镀膜的基本原理 在电弧离子镀膜过程中,首先...
工艺系统:由真空电弧离子镀膜(ARC)+离子束清洗(IONBEAM)+磁控溅射(SPUTTER)组合而成。 系列设备通过冷阴极真空弧光放电活动中的正离子电流与场电子间的相互影响与制约实现电量迁移。实现高结合力、高硬度、耐磨损、耐腐蚀膜层的沉积。 主要特点: 1、 由9个多弧离子镀膜源+2个阳极层离子束清洗源+2个磁控溅射弧源...
电弧斑点对镀膜均匀性和膜层质量的影响 电弧光斑的移动路径和速度对镀膜的均匀性起到关键作用。如果光斑不稳定,可能导致镀层不均匀或粗糙度增加。通过控制光斑行为,可以提高镀层的均匀性和表面光洁度,减少涂层的飞溅物。 二、多弧离子镀膜工艺的核心控制参数 ...
离子真空镀膜机电弧放电的一个重要特征是阴极上有一个阴极辉光点。热离子电弧的辉光点一般是固定的；冷阴极电弧中液态汞表面的亮点，如汞弧整流管，跳跃移动。阴极辉光是电子发射的来源，其电流密度高达数百至数千安培\\u002Fcm2。电弧放电的伏安特性随电极材料、气体类型和压力而变化。大气中的碳电极电弧呈现典型的...
空心阴极离子镀膜的条件 引燃空心阴极弧光需要具备以下条件: 1.用钽管制成的空心阴极枪安装在镀膜室壁上,可用于发射热电子流。坦管内径为φ6~φ15mm,壁厚为0.8~2mm。 2.电源由引弧电源和维弧电源并联组成。引弧电源电压为 800~1000V,引弧电流为30~50A;维弧电压为40~70V,维弧电流为80-300A。
阴极电弧离子镀膜技术采用的是冷场致弧光放电技术。最早把产生冷场致弧光放电技术应用于镀膜领域的是美国 Multi Arc 公司。该术的英文名称为 arc ionplating (AIP)。 阴极电弧离子镀膜技术是各种离子镀膜技术中金属离化率最高的技术。膜层粒子的离化率达到 60%~90%,膜层粒子大部分以高能离子的形态达到工件表面,具...