1.热氧化定义：•将硅片置于高温下，通以氧化的气氛，使硅表面一薄层的硅转变为二氧化硅的方法。2.二氧化硅(Si02)的结构 2.1基本架构单元：4个O原子位于四面体的顶点，Si位于四面体中心。SiO2有结晶形和无定形两类。结晶形和非结晶形（无定形）二氧化硅都是Si－O正四面体结构组成的。这些四面体通过不同的桥键...
1.氧化膜作用.作为杂质扩散或离子注入的掩蔽层.表面钝化层.器件隔离用的绝缘 3、层.mos器件的组成部分栅介质.电容器的介质材料.多层布线间的绝缘层 介电强度高: 10 mv/cm 2.1二氧化硅的绝缘特性二氧化硅的绝缘特性 电阻率高: 1 1014 cm 1 1016 cm 禁带宽度大: 9 ev 介电常数:3.9 (热氧化二氧化硅膜) 2....
“热氧化”是一种燃烧工艺，在热氧化工艺过程中， 污染物与氧气在一定温度条件下发生氧化反应。这种化学反应的产物为无害的物质 （二氧化碳，水蒸汽和热），可以安全地排放。检测方法 热氧化器种类 热氧化器有四种基本类型。分别是直燃式热氧化器（也称为后燃烧器），热回收式热氧化器，蓄热式热氧化器（RTO）和无...
热氧化原理主要包括氧化反应的机理、影响因素和应用领域等内容。 首先,热氧化的机理是指在高温下,材料表面与氧气发生氧化反应,形成氧化膜。这种氧化膜可以提高材料的耐腐蚀性能、耐磨损性能和机械性能,同时也可以改善材料的外观质量。氧化反应的机理包括表面扩散控制和化学反应控制两种情况,具体取决于材料的性质和处理条件...
硅热氧化工艺，按所用的氧化气氛可分为：干氧氧化、水汽氧化和湿氧氧化。干氧氧化是以干燥纯净的氧气作为氧化气氛，在高温下氧直接与硅反应生成二氧化硅。水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛，由硅片表面的硅原子和水分子反应生成二氧化硅。水汽氧化的氧化速率比干氧氧化的为大。而湿氧氧化实质上是干氧氧化和水汽氧化...
在本文中,我们将一起探讨常见的热氧化方法的原理及特点。 一、高温燃烧法 1.原理 高温燃烧法是通过将化合物置于高温的氧气流中进行氧化反应的方法。在高温条件下,物质分子的热运动增强,同时氧分子也更容易与物质发生反应,从而实现氧化作用。 2.特点 高温燃烧法能够在较短的时间内完成氧化反应,适用于某些对时间要求...
(四)热氧化 4.4 热氧化过程中杂质的再分布 由四方面因素决定: 杂质的分凝现象; 杂质在SiO2表面逸出; 杂质在SiO2、Si中的扩散系数; 界面移动(氧化速率) * 分凝 逸出 扩散 界面移动 (1)杂质分凝效应 k1,在SiO2/Si界面杂质向SiO2内扩散,Si表面杂质浓度低,耗竭。B kB= 0.3,Al kAl=0.1。 k1,在SiO2/Si...
一、热氧化法原理 热氧化法是一种基于高温、高压、氧化等原理降解挥发性有机物的方法。将有机废气送入反应器中,在高温、高压、氧化的作用下,有机物被氧化分解成二氧化碳和水等无害物质,完成处理过程。 二、热氧化法应用领域 热氧化法已广泛应用于化工、印刷、油漆等行业,对于挥发性有机物的处...
4.3 热氧化 一、薄膜的制备 ★薄膜生长：热氧化 ★薄膜淀积（沉积）：PVD（PhysicalVapor-phaseDeposition）物理气相淀积（蒸发、溅射）CVD（ChemicalVapor-phaseDeposition）化学气相淀积（APCVD、LPCVD、PECVD）二、热氧化含义 ★高温下（900~1200℃），硅与氧气或 水蒸气发生氧化反应在表面形成生成二氧化硅的过程。★...