激光直写光刻技术是一种利用曝光强度可控的激光束来光刻曝光,并在显影后得到具有期望形貌微结构的3D光刻技术。 该技术可以通过计算机对激光的曝光位置与曝光强度进行数字化控制,实现对光刻胶的变剂量曝光,因此具有很高的制造灵活性。 下图为激光直写光刻设备的工作原理示意图。 激...
Andrew Ross-Adams 和他所在的麦考瑞大学团队,近日,以“Low bend loss, high index, composite morphology ultra-fast laser written waveguides for photonic integrated circuits”为题在Light: Advanced Manufacturing上报告了一种新型低弯曲损耗的复...
华盛顿大学研究团队提出了一种基于激光直写（DLW）的新方法，无需任何昂贵的纳米制造设备，可以在任意场景下，快速、低成本地制造光子集成电路。他们的创新灵感源自于CD和DVD中使用的信息录入原理，即用激光写入器在特殊的相变材料薄膜上进行光子芯片设计的写入、擦除和修改，这一全新的工艺大大提升了制造效率。该团队...
激光直写则打破了这一限制,利用计算机控制激光束的移动,在材料表面甚至内部灵活地“绘制”出任意所需的图案,大大提高了加工的自由度。具体来说,激光直写通过将激光束聚焦在材料的一小块区域,利用激光与材料的相互作用(如光致变色、光聚合、光致烧蚀、光致相变等),在材料上直接写入图案。通过改变激光的波长、功率...
此次工作中，他们将多轴机器人平台的高机动性、与激光直写技术结合，开发了基于五轴联动的自由曲面激光直写工艺（Direct Freeform Laser）。它的优势在于：既能确保激光束聚焦、且垂直于三维曲面，还能保留激光加工的材料选择灵活性。验证完曲面器件的性能之后，基于激光诱导石墨烯、金属及其氧化物等材料，该团队使用...
激光直写光刻系统是一种用于物理学、电子与通信技术领域的工艺试验仪器，于2015年4月17日启用。技术指标 激光波长405纳米，最高分辨率0.6微米，最大样品尺寸：8英寸。主要功能 与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。 15个蓝光...
激光直写微纳加工 激光直写微纳加工是一种用高精度激光直接在材料表面制造微小结构的技术。这种技术不需要传统光刻中的掩模版,通过计算机控制激光束的路径和参数,在材料上直接“画”出纳米或微米级图案。操作时,激光聚焦到极小的光斑,能量高度集中,材料在激光作用下发生物理或化学变化,形成所需的微结构。 这种加工...
高通量激光直写技术 传统的飞秒激光双光子聚合主要通过点的扫描方式进行加工，加工一个复杂的结构通常需要花费几小时甚至更长的时间；双光子直写的刻写通量较低，仅能勉强满足现象级研究的需求，难以实现大面积或批量化刻写。可见，提高直写效率和刻写通量对批量制备大面积高质量微纳结构器件至关重要。优化扫描模式可...
激光直写光刻(laser direct write lithography，LDWL)作为一种无掩模光刻技术，是利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光，显影后在抗蚀层表面形成所要求的图形。无掩模光刻技术,即直接写入技术,主要有电子束直写和激光直写两种。这种光刻技术无需掩模制作、图形光刻转移、套刻、多次蚀刻等过程,减少...