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SiO2是氧化物中薄膜性能良好的低折射率材料(约1.45~1.47),SiO2不易分解,吸收与散射都很小,在180nm到8μm有很高的透过率,因此时镀制多层膜的最佳低折射率薄膜材料.SiO2的熔点与蒸发温度相近,因此使用SiO2颗粒作为初始膜料时,电子束必须很快扫描膜料,否则电子束会将膜料挖坑而影响镀膜速率及SiO2分子的均匀分布.膜...
化学去除氧化层薄膜是利用化学反应去除氧化层,其方式包括浸泡、刷涂、喷涂等多种方法。常用的化学去除剂包括酸、碱和还原剂等,但需要根据具体金属和氧化层的不同选择相应的去除剂。需要注意的是,使用化学去除剂时一定要戴好防护手套,避免皮肤和眼睛直接...
一、国外氧化物薄膜发展过程 最早起源：美国Dupon公司的蒸镀发明专利 1970年：日本Unichika公司在尼龙基材上进行蒸镀氧化硅膜的研究开发 20世纪80年代中期：三菱公司开发并推出PVA、PET、PA为基材的高阻隔膜；东洋株式会社和凸版印刷研究开发高阻隔氧化铝透明蒸镀膜，用于替代铝箔作为微波食品包装 80年代末期：高阻隔透明...
一、致密氧化物薄膜的定义和特性 致密氧化物薄膜是一种具有高致密度的薄膜涂层材料,由气相沉积等方法制备而成。具有以下特性: 1. 高致密度、致密均匀,表面光洁度高,能够提高材料的硬度及耐磨损性。 2. 具有较高的熔点和抗氧化性,能够在高温和强氧化环境下保持稳定性。 3. 光学性能优良,能够...
一、氧化物薄膜的制备 1.化学气相沉积法 化学气相沉积法是制备氧化物薄膜的一种常见的方法。其原理是在高温下使气体分解并与基底表面反应,形成薄膜。该方法的优点是可以制备出具有高质量和均匀性的薄膜,具有较高的加工精度和生产效率。缺点是需要使用高温和高压条件,对设备的要求比较高,同时易受到制备条件和杂质的影...
氧化层是透明的薄膜。如果光照射到晶圆上并被反射,光波的各种特性就会发生变化,这些特性可以用计量装置检测到。如果有多层相互堆叠,它们的光学特性必须不同才能确定材料。 为了监测晶圆上的薄膜厚度,需要几个测量点被量化(例如,150 毫米晶圆上一般取 5 个点,200 毫米晶圆上取 9 个点,300 毫米晶圆上取13 个点)。
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透明导电氧化物（Transparent Conductive Oxides，简称TCO）薄膜是一类具有高可见光透射率和低电阻率的材料，广泛应用于各种光电器件中。常见的TCO薄膜主要分为氧化铟锡（ITO）薄膜、掺铝的氧化锌（AZO）薄膜、掺氟的氧化锡（FTO）薄膜、掺锑的氧化锡（ATO）薄膜、掺镓的氧化锌（GZO）薄膜、掺杂其他元素的氧化锌（ZnO...