一种增加两次图形曝光工艺窗口的方法专利信息由爱企查专利频道提供,一种增加两次图形曝光工艺窗口的方法说明:本发明一种增加两次图形曝光工艺窗口的方法,其中,调整了硬掩模的厚度为底部抗反射层特定最小厚度的...专利查询请上爱企查
摘要 一种用于扩大焦深参数工艺窗口的掩膜版、反掩膜版及其曝光方法,属于光刻技术领域。该发明提出一种在图形稀疏区增加哑元图形使图形稀疏区和图形密集区的图形密度均匀的掩膜版,并以该掩膜版进行第一次曝光;同时提供其相应的用于对哑元图形区域进行补偿曝光的反掩膜版,并以该反掩膜版进行第二次曝光。该掩膜版、...
1、光刻胶迎来国产替代机会窗口(附股)光刻胶,是一种感光材料,在光的照射下发生化学反应,利用溶解度的变化将光学的信号转化为化学信号,通过曝光、显影及刻蚀等一系列步骤实现电路从掩模转移到基片上。因此光刻胶的性能决定了集成电路的集成度,进而决定了芯片的运行速度、功耗等关键参数,所以系集成电路制造工艺中最...