光比太大拍的照片曝光不均匀,后期可以这么调#摄影 #后期调色教程 #调色 - Alone摄影📷于20240328发布在抖音,已经收获了1450.5万个喜欢,来抖音,记录美好生活!
一、曝光均匀性评估方法 曝光均匀性评估是确定光刻机性能的关键步骤。下面我们介绍几种常用的评估方法。 1.光强分布测量法 这种方法通过在硅片上布置大量光敏剂,然后在光刻过程中记录不同位置的曝光光强,从而获得曝光均匀性的分布。该方法需要使用高精度的光强测量设备,并且对于硅片的制备和光强标定要求较高。 2.曝光...
一,仪器准备 曝光均匀性测试需要使用测量仪器,一般使用光谱辐射计.在选择光谱辐射计时,需要考虑测量范围和光谱范围等因素.建议使用具有较宽光谱范围和较高测量精度的光谱辐射计. 二,测试步骤 1.设置测试环境 在测试前,需要设置好测试环境.环境中应该保持相对恒定...
曝光均匀性是指在一片硅片或掩膜范围内,光刻胶受到的曝光剂量的分布是否均匀。在实际应用中,曝光均匀性通常以光强的标准偏差来描述,即光强的标准差与平均光强之比。例如,一个光刻机的曝光均匀性为3%,意味着光刻胶受到的曝光剂量在整个曝光区域内的标准差为平均光强的3%。 3.曝光均匀性对光刻胶曝光的影响 曝光均...
光刻胶的曝光均匀性是指在光刻机曝光过程中,光照强度在样品表面的分布情况。而曝光均匀性的优化对光刻胶曝光有着重要的影响。首先,均匀的曝光可保证整个芯片区域都能得到充分曝光,避免出现曝光不足或过曝的情况。其次,优化曝光均匀性还可减小曝光非均匀性引起的图案变形、变形及线宽不一致等问题,提高光刻图案的精度...
在光刻机曝光模式下,曝光均匀性存在一些挑战,主要原因包括: 1.光源强度分布不均匀:光刻机使用的光源存在亮度不均匀的情况,导致曝光时光斑分布不均匀。 2.光罩传输函数(Mask Error Enhancement Factor, MEEF):MEEF是指光刻胶曝光后的图形与设计原型之间的偏差,其值越大,均匀性越差。 3.光刻胶吸收和散射:光刻胶...
4.定期检查 曝光机均匀性是随着时间和使用次数的增加而逐渐变差的,需要定期检查和更新校正片,以确保印刷质量的稳定性。 【结语】 曝光机均匀性调整是印刷品质量的重要保障,对印刷成品的色彩和清晰度等方面都将产生直接影响。掌握曝光机均匀性的调整方法和注意事项,是印刷工作者不可或缺的技能。
方法/步骤 1 打开ps软件，导入我们需要判断曝光度的图片。2 然后Ctrl+L打开色阶 3 我们先拿第一张“冰”的图片举例子。我们可以发现，输入色阶从0~255都有。4 这说明这张图片的曝光度适中！5 我们再来看一下另一张“兔子与猫”的图片。我们可以发现输入色阶里从0~20是空的。6 这说明这一张图片有一点偏亮...
光刻机的曝光场均匀性是指在光刻胶表面,不同位置接受到的曝光剂量的一致性。一般来说,光刻机对曝光场均匀性的要求可分为以下几个方面: 1.均匀性误差要求低:光刻机的曝光场均匀性要求误差较小,通常在1%以内。只有保证曝光场的均匀性误差较低,才能实现制造高质量的芯片。 2.色散控制要求高:色散是指不同波长的...
光刻机的曝光模式是指光源和掩膜对光刻胶层进行曝光的方式。曝光模式的选择对曝光均匀度有着重要的影响。 1.均匀光源模式 均匀光源模式下,光源产生的光线在整个曝光区域内具有较为均匀的分布,这种模式下曝光均匀度较高。然而,均匀光源模式下的能量利用率较低,容易造成光的浪费。 2.梯度光源模式 梯度光源模式下,光...