一、计算磨粒的体积和浓度 抛光液中的磨粒可以是各种颗粒状材料,如氧化铝、氧化钇、氧化铁等。要计算磨粒的间距,首先需要知道每种磨粒的体积和浓度。磨粒体积可以通过显微镜观察获得,而浓度通常由厂商提供。假设我们知道某一种磨粒的体积为V,浓度为C,那么它的间距d可以根据公式d=1/(3*sqrt(2)...
液体磨粒流是一种利用液态磨料作为研磨介质的研磨工艺。在液态磨粒流工艺中,磨料通过高速流动的方式,在孔口和孔壁进行微量切削,以达到去毛刺和抛光孔道的目的。与传统的磨粒流工艺相比,液态磨粒流的优势在于可以实现更大的流量,且更容易实现自动化对接,因此非常适合批量加工和自...
独特的QMOVE金刚石悬浮液具备高效的磨削率和去除率,与普通抛光液比较,在磨抛质量等同情况下,用量节省30%,时间节省60%,让样品制备更优、更快、更经济。 严格分级粒度,提纯分级制取 -QMOVE金刚石悬浮液的粒度选择范围
当前使用广泛的磨粒包括金刚石、氧化铝、二氧化铈、二氧化硅等。纳米金刚石磨粒硬度较大、具有较高的表面活性并且可以分散于极性介质,因此可以用于制备抛光液,但是纳米金刚石磨粒分散性较差,可能划伤工件表面;氧化铝的硬度较高,可以对多种材料进行抛光,但是氧化铝颗粒易团聚,且机械作用较强,易在工件表面产生损伤、划痕等缺...
蓝宝石抛光液的PH值呈碱性,一般为10~13,在此碱性环境中会发生如下化学反应: Al2O3+2OH-=2AlO2-+H2O Al(OH)3+OH-=AlO2-+2H2O CMP过程主要是抛光液化学腐蚀à抛光液磨粒磨削去除à去除物被抛光液带走,这三步在抛光过程中是同时发生的,缺一不可。即抛光液与蓝宝石基片发生化学反应生成一层反应层,抛光液中...
罗恩磨粒流抛光机 金属模具零件内孔加工抛光处理 液态流体抛光工艺 罗恩品牌 罗恩研磨技术(苏州)有限公司 2年 查看详情 ￥15.00万/台 江苏苏州 罗恩 液态磨粒流设备 镜面喷射抛光机 边缘倒角去毛刺 铝合金内孔抛光 挤压式 罗恩品牌 罗恩研磨技术(苏州)有限公司 2年 查看详情 ￥1.38万/台 EP-06电解抛光腐蚀仪...
它通过抛光液中的化学成分与工件表面的化学反应,结合微纳米磨粒的机械作用,实现工件表面的高精度抛光。CMP技术具有抛光效率高、表面质量好、加工损伤小等优点,特别适用于氮化硅陶瓷球的抛光处理。氧化铈(CeO2)抛光液因其能与氮化硅发生化学反应且硬度适中,被广泛用于氮化硅陶瓷球的化学机械抛光中。然而,CMP技术的抛光...
1.一种碱性‑耐热‑多尺寸磨粒磁流变抛光液,其特征在于,所述磁流变抛光液按质量份数包括:去离子水26～30份、悬浮稳定剂0.1～0.15份、碱性化学物质1.2～1.5份、小尺寸磨粒1～1.5份、大尺寸磨粒4～4.5份、磁性颗粒64～68份;所述悬浮稳定剂为羟丙基甲基纤维素,所述碱性化学物质为氢氧化钠,所述小尺寸磨粒为...
流体抛光是一种利用高速流动的液体及其携带的磨粒来刷拭工件表面#创力精密抛光液#抛光研磨液#半导体抛光#CMP抛光研磨液#钻石抛光研磨液 - 第三代半导体钻石抛光液-创力科技于20240726发布在抖音,已经收获了1个喜欢,来抖音,记录美好生活!
氧化硅溶胶为99.9～95% ;制备过程为:首先,将镧元素通过共沉淀的方法掺杂到氧化硅溶胶颗粒中,然后,通过离子交换法制备镧元素掺杂氧化硅溶胶的复合磨粒;该抛光液组合物的组成及其重量百分比含量如下:镧元素掺杂氧化硅溶胶复合磨粒为6～6.12%,分散剂六偏磷酸钠为2%,去离子水为其余量,以上各组成的质量百分含量之和为10...