抛光能够去除物体表面的瑕疵和粗糙度,使其表面变得光滑、亮丽和有光泽。抛光的材料种类繁多,根据不同的要求和用途,选择合适的抛光材料十分重要。 1.磨料:磨料是抛光中最重要的材料之一。它可以用来去除物体表面的粗糙度、划痕和氧化层,使其表面平整。常见的磨料有氧化铝、蓝宝石、硼氮等。磨料一般以颗粒形式存在,有...
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今天重点分析CMP 抛光材料:价值量最大的是抛光液(安集科技)和抛光垫(鼎龙股份),目前格局是美日厂商主导,中国少数厂商实现突破,未来国产化替代空间广阔。 1.什么是CMP 工艺? CMP(化学机械抛光/研磨)是目前公认的纳米级全局平坦化精密加工技术。在集成电路制造全过程中,除集成电路设计环节外,都需要使用 CMP 工艺,其中...
研磨抛光材料 研磨抛光材料 是一种用来打磨工件并能使工件光滑且能提高工件亮度的材料，主要包括磨料、磨液、抛光液等。研磨抛光材料是涂覆类抛光磨料、拉丝类抛光磨料、抛光类磨料、研磨液、光亮剂、清洗剂等等抛光所用材料的总称，主要对工件表面进行打磨、拉丝和抛光。
CMP抛光材料主要产品 CMP工艺应用的主要材料和关键部件有抛光液(Slurry)、抛光垫(Pad)和修整盘(Conditioning Disc)、CMP后清洗液(Post CMP Cleaning Chemical)、保持环(Retainer Ring)、硅片吸附膜(Membrane)、清洗棉(Brush)、过滤器(Filter)等。其中,抛光液、抛光垫和修整盘是关键的三大消耗性材料。
研磨材料是抛光过程中最常用的材料之一,通常用于初步去除工件表面的毛刺和粗糙度。研磨材料种类繁多,包括金刚石、莫来石、碳化硅、氧化铝、氧化钨、氧化锆等。各种研磨材料的特点不同,适用范围也不同,需要根据工件性质和使用要求进行选择。 二、磨料粉末 磨料粉末是另一种常用的抛光材料,可以用于去除表面毛刺、瑕疵和...
三、抛光布 抛光布是一种用来涂抹抛光剂的工具,常用于对小型金属零件进行抛光处理,可以使金属表面得到光滑且反光性强的效果。抛光布的材质有很多种,常见的有棉布、绒布和海绵等。 除了以上常用的抛光材料,有些用户还会选择使用电解抛光和化学抛光等方法,以取得更好的抛光效果。但这些方法需要专业技术和设备的支持,并...
抛光液在化学机械抛光过程中可使晶圆表面产生一层氧化膜，再由抛光液中的磨粒去除，达 到抛光的目的。清洗液主要用于去除残留在晶圆表面的微尘颗粒、有机物、无机物、金属离子、氧化物等杂质。根据CMP细分抛光材料市场份额，抛光液占比达49%，抛光垫占比33%，合计超过80%。抛光液工艺复杂，种类繁多 抛光液是一种由...