平场凹面光栅是像差校正光栅。它把入射狭缝的光谱图像会聚到一个平面上,所以平面探头陈列能同时探测到各光谱的强度信号。 平场凹面光栅 显示项结果 搜索: 光栅型号相对孔径 F#波长范围 (nm)λS波长范围 (nm)λE光谱宽度 (mm)色散 (nm/mm)La(mm)入射角 AOI (度)Lb(mm)基板尺寸 长×宽×高 (mm) ...
阿里巴巴全息光栅,平面光栅,原刻闪耀光栅,血液及体液分析仪器,这里云集了众多的供应商,采购商,制造商。这是全息光栅,平面光栅,原刻闪耀光栅的详细页面。产地:宁波,是否进口:否,品牌:yuanlu,型号:p20-325。本公司是一家专业从事设计、生产各种全息光栅、光谱仪及
原刻单色仪光栅报价单 填写上面表格或 下载PDF文件, 传真或EMAIL给我们。 使用波长范围: 至 nm 光谱分辨率: nm 闪耀波长(λb): nm 闪耀波长处的衍射效率 @ λb: @TM @TE 入射光的数值孔径NA: 单色仪偏转角 2Ф: 度 光栅基板曲率半径: mm 光栅基板材料: 外形尺寸(LxWxH): mm 镀膜材料: 其它要求: 公...
不过,从市场情况来看,原刻光栅的价格范围比较广,每款产品的价格都会有所差异。您可以根据自己的需求和预算,选择适合您的产品。
光栅刻线是通过光刻技术制造出的一种具有周期性结构的线条。光刻技术是一种通过光敏材料来制造微细结构的方法,利用红外线或紫外线照射光敏材料,经过化学处理,形成所需要的结构,从而达到微细加工的目的。光栅刻线具有高度规则的结构和精细的线条,可以在光学、电子和机械领域发挥重要的作...
一、光栅刻划机工作原理 光栅刻划机主要基于光学定位和机械刻划两大原理。在光学定位阶段,设备利用高精度的光学系统对加工区域进行精确定位,确保刻划的准确性和精度。在机械刻划阶段,通过精密的机械传动系统驱动刻划刀,在光栅材料上按照预设的图案进行刻划。 二、光栅刻划机工作流程图解 1.光学定位:首先,光栅刻划机...
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从图三的谱线可以看出,均匀光栅反射峰的两侧存有大量的杂峰,在此称为旁瓣。这些旁瓣的存在有时会对解调仪造成困扰,即很难判断反射峰的精确漂移位置。为此,发展出光栅切趾技术,即在刻写过程中,在栅区的两端减少曝光强度,使曝光能量中间强,两边弱。如此相当于在原有的谱线上增加一个调制函数,以去除主峰两边的旁瓣...
光刻法是现代光栅加工中常用的一种技术,它利用光学原理将光栅图案从掩模版转移到基底材料上。光刻法的基本原理包括以下几个步骤: 涂胶:在基底材料上涂覆一层均匀的光刻胶。 曝光:将掩模版放置在光刻胶上方,并使用光源(如紫外光)对光刻胶进行曝光。曝光过程中,掩模版上的光栅图案会投影到光刻胶上,形成相应的曝光...
光刻机定位光栅尺是用于光刻机制造过程中进行定位的一种光学传感器。具体来说,它能够实现在纳米级别的位置上进行定位。在光刻机制造过程中,定位是非常重要的环节,因为它直接影响到产品的质量和性能。而光刻机定位光栅尺恰好能够满足这一需求,它可以精确地检测光刻机的位置信息,有...