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在单晶硅片制备阶段，需要将硅单晶棒加工成具有高面型精度和表面质量的原始硅片或光片（barewa-fer),为IC前半制程中的光刻等工序准备平坦化超光滑无损伤的衬底表面。对直径≤200mm的硅片，传统的硅片加工工艺流程为：单晶生长→切断→外径滚磨→平边或V型槽处理→切片→倒角→研磨→腐蚀→抛光→清洗→包装。多晶硅...
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