TEOS是一种常见的化学气相沉积过程中的硅源，一般用来生成SiO2薄膜，这种薄膜可以作为介质层、隔离层、保护层等。半导体工艺中的PE-TEOS是指TEOS和氧气通过PECVD过程生成二氧化硅。在等离子体增强PECVD的反应过程中，TEOS和氧气在衬底表面同时受到高频电场的刺激，生成等离子体。等离子体中的离子和自由基能够促使TEOS和氧气...
PEcvd dep teos?我能想到的就是这个
半导体工艺中的PE-TEOS指的是什么? 半导体工艺中的PE-TEOS指的是什么? 关注问题写回答 邀请回答 好问题 1 知乎· 3 个回答 · 5 关注 21TIANZUO5关注 1 人赞同了该回答 PECVD方式长以TEOS为硅源的SiO2 发布于 2024-10-28 10:22・IP 属地广东 1 马斯克宣布 SpaceX 总部将正式迁至美...