百度试题 题目制备SiO2的方法有________、________、________________等。相关知识点: 试题来源: 解析 溅射法 真空蒸发法 阳极氧化法、热氧化法、 热分解淀积法 反馈 收藏
(1)工业上用焦炭在高温下置换二氧化硅中的硅来制备粗硅,方程式为:SiO2+2C 高温 . Si+2CO↑,故答案为:SiO2+2C 高温 . Si+2CO↑;(2)SiHCl3(沸点33.0℃)、SiCl4(沸点57.6℃)、HCl(沸点-84.7℃),他们的沸点不同,根据沸点的不同实现物质分离的方法为蒸馏或分馏;SiHCl3水解生成硅酸、氢气和氯化氢,反应方程...
硅烷热分解淀积法是在氧气气氛中,由硅烷在加热的衬底表面热分解并与氧气反应生成SiO2的方法。生成物SiO2就淀积在衬底表面。由于SiO2形成过程中必须有氧气存在并参与反应,所以硅烷热分解淀积法也称为硅烷热氧化淀积。这种方法生成的SiO2膜层结构致密、均匀性好,适用于需要高纯度、高质量的SiO2层的情况。 总结📝 每种...
4.溶胶-凝胶法制备纳米二氧化硅 溶胶-凝胶法制备过程中，由于凝胶中含有大量气孔，制备过程中可防止粉末颗粒产生严重团聚现象，易控制粉末颗粒尺度，可制得纯净且粒径分布均匀的超细SiO2颗粒。
01物理法一般指机械粉碎法。利用超级气流粉碎机或高能球磨机将SiO2的聚集体粉碎可获得粒径1~5微米的超细产品。该法工艺简单但易带入杂质。粉料特性难以控制，制备效率低且粒径分布较宽。02化学法可制得纯净且粒径分布均匀的超细SiO2颗粒。化学法包括化学气相沉积(CVD)法、液相法、离子交换法、沉淀法和溶胶凝胶(Sol...
5.微乳液法:利用两种互不相溶的溶剂在表面活性剂的作用下形成微乳液,在微乳液的油相中通过控制反应条件制备出SiO2纳米颗粒。优点在于可控制颗粒大小和形状,产物纯度高。缺点在于需要使用大量有机溶剂,且制备过程较为复杂。 以上是二氧化硅(SiO2)纳米材料的几种制备方法及优缺点,可以根据实际需求选择合适的方法进行制备...
通常制备SiO2薄膜现行方法主要有磁控溅射、离子束溅射、化学气相沉积(CVD)、热氧化法、凝胶- 溶胶法等。1、SiO2薄膜的制备方法1.1、磁控溅射 磁控溅射自1970年问世以来,由于其沉积速率快、衬底温度低、薄膜厚度的可控性、重复性及均匀性与其它SiO2薄膜制备方法相比有明显的改善和提高,避免粉尘污染,以及溅射阴极尺寸可以...
溶胶- 凝胶方法制作SiO2膜的过程是先准备好溶胶A和溶胶B,将两种胶混在一起充分搅拌,在80℃下回流约3～5h,室温存放待用镀膜。然后在清洁干燥恒温(20℃～25℃)环境中采用浸渍法制备SiO2膜,提拉速度控制在10～20cm/min。基片为双面抛光的硅片和直径3.5mm光学玻璃,镀膜前对基片进行严格的清洗,形成薄膜后将基片放在...
1、SiO2薄膜的制备方法 1.1、磁控溅射 磁控溅射自1970年问世以来,由于其沉积速率快、衬底温度低、薄膜厚度的可控性、重复性及均匀性与其它SiO2薄膜制备方法相比有明显的改善和提高,避免粉尘污染,以及溅射阴极尺寸可以按比例扩大等优点,已应用于从微电子器件到数平方米玻璃镀膜的诸多领域,并逐渐发展成为大面积高速沉积的...