• 收集和分析:通过微酸性扫描液收集晶圆表面分解的氧化层。当所有冷凝物汇聚至酸滴中后,将其转移至小瓶中,随后使用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)进行分析。 • 提高灵敏度:VPD技术能够扫描大片的晶圆区域并汇聚到一起来提高灵敏度,而ICP-MS可提供更低的痕量金属检测下限。 • 全自动操作:VPD-ICP-MS系统可...
该技术提供了极低的检出限、极宽的动态线性范围、谱线简单、干扰少、分析精密度高、分析速度快以及可提供同位素信息等分析特性。 因此以上3种方法中ICP-MS成为最优的选择。 三、VPD ICP-MS检测过程 测试过程(可实现全自动化)包括四个步骤: 1.将硅片置于 VPD 室中,并暴露于 HF 蒸气中以溶解自然氧化物或热氧化...
在进行VPD金属污染测试时,需要将扫描液引入ICPMSMS进行分析,测得各个元素浓度,进而算出晶圆表面元素密度。由于晶圆表面元素含量通常在100ppt~0.Xppt范围,因此超净的无尘室环境成为测量准确性的重要前提,通常需要达到百级,局部十级以内的超净分析...
• 收集和分析:通过微酸性扫描液收集晶圆表面分解的氧化层。当所有冷凝物汇聚至酸滴中后,将其转移至小瓶中,随后使用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)进行分析。 • 提高灵敏度:VPD技术能够扫描大片的晶圆区域并汇聚到一起来提高灵敏度,而ICP-MS可提供更低的痕量金属检测下限。 • 全自动操作:VPD-ICP-MS系统可...
步骤一：将硅片置于VPD室中，通过HF蒸气溶解表面的自然氧化物或热氧化的SiO2。步骤二：将提取液滴置于晶圆上，并以控制方式倾斜，液滴在晶圆表面上移动并收集溶解态SiO2与所有污染物金属。步骤三：将提取液滴从晶圆表面转移到ICPMS系统中进行分析。注意事项：在整个过程中，必须严格避免实验室二次污染，并...
VPD ICP-MS检测过程 测试过程(可实现全自动化)包括四个步骤: 1.将硅片置于 VPD 室中,并暴露于 HF 蒸气中以溶解自然氧化物或热氧化的 SiO2表面层 2.将提取液滴(通常为 250 μL 的 2% HF/2% H2O2)置于晶圆上,然后以精心控制的方式倾斜,使得液滴在晶圆表面上“扫掠” ...
VPD ICP-MS检测过程 测试过程(可实现全自动化)包括四个步骤: 1.将硅片置于 VPD 室中,并暴露于 HF 蒸气中以溶解自然氧化物或热氧化的 SiO2表面层 2.将提取液滴(通常为 250 μL 的 2% HF/2% H2O2)置于晶圆上,然后以精心控制的方式倾斜,使得液滴在晶圆表面上“扫掠” ...
VPD ICP-MS检测过程 测试过程(可实现全自动化)包括四个步骤: 1.将硅片置于 VPD 室中,并暴露于 HF 蒸气中以溶解自然氧化物或热氧化的 SiO2表面层 2.将提取液滴(通常为 250 μL 的 2% HF/2% H2O2)置于晶圆上,然后以精心控制的方式倾斜,使得液滴在晶圆表面上“扫掠” ...
VPD ICP-MS检测过程分为四个步骤。首先，将硅片置于VPD室中，通过HF蒸气溶解表面的自然氧化物或热氧化的SiO2。接着，将提取液滴（通常为2% HF/2% H2O2）置于晶圆上，并以控制方式倾斜，使得液滴在晶圆表面上移动并收集溶解态SiO2与所有污染物金属。然后，将提取液滴从晶圆表面转移到ICP-MS或ICP-MS/...
否则测试结果通常会因环境因素失真。 除了以上晶圆表面污染情况的评估外,VPD-ICPMSMS还可以通过检测晶圆特殊区域来达到评估生产设备/材料洁净度的手段。 英格尔晶圆表面污染评估,周期1-5工作日,全程数据可查,支持现场参观测试。 发布于 2023-05-25 17:37・IP 属地上海...