近日,第九届国际第三代半导体论坛(IFWS)&第二十届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA)在厦门国际会议中心盛大召开。期间“氮化镓功率电子器件”分会上,来自日本ULVAC株式会社首席技术官牛山史三先生带来了《GaN溅射技术进展》的演讲。 ULVAC从20年前开始开发通过溅射方式生长n+-GaN薄膜,目前已有量产经验,此次是首次在全世界...
近日,第九届国际第三代半导体论坛(IFWS)&第二十届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA)在厦门国际会议中心盛大召开。期间“氮化镓功率电子器件”分会上,来自日本ULVAC株式会社首席技术官牛山史三先生带来了《GaN溅射技术进展》的演讲。 ULVAC从20年前开始开发通过溅射方式生长n+-GaN薄膜,目前已有量产经验,此次是首次在全世界...
※当隔膜型干式真空泵停机时,极快地向泵头内部导入空气,使泵头与外侧没有压差的机构。 产品介绍: 品类齐全 轻松购物 多仓直发 极速配送 正品行货 精致服务 天天低价 畅选无忧 新手入门 购物流程 会员制度 订单查询 发票制度 常见问题 支付方式 货到付款 网上支付 银行转账 配送服务 配送范围及运费 ...
面向未来智能社会所需的信息通信,电力电子,自动驾驶等领域,近年来第三代功率半导体材料(SiC,GaN等)具有更宽的禁带宽度、更高的导热率、更高的抗辐射能力、更大的电子饱和漂移速率等特性,已经成为最有潜能的新一代材料。 近日,2021功率半导体与车用LED技术创新应用论坛在上海举行。本届论坛由半导体产业网和励展博览集...
工艺应用丰富的干法刻蚀技术(GaN、蓝宝石、各种金属、ITO、SiC、AlN、ZnO、四元化合物半导体材料等)。 丰富的可选功能。 采用 LED、蓝宝石、各种金属、ITO等用GaN的各种干法刻蚀。 *请输入您的公司全称,方便我们和您联系 *请输入您的联系人,方便我们和您联系 ...
的工艺应用的干法刻蚀技术(GaN蓝宝石、各种metal、ITO、SiC、AlN、ZnO、4元系化合物半导体)。 丰富可选机能。 产品 / Product application 对应的GaN、蓝宝石、各种金属、ITO等的干法刻蚀设备 价格 价格商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选...
2024年12月9日,ULVAC, Inc.(以下简称“ULVAC”)和 Silicon Austria Labs GmbH(以下简称“SAL”)联手合作开发用于大批量生产薄膜铌酸锂 (TFLN) 的等离子蚀刻工艺。 宽带宽、低损耗和高功率效率是使该材料成为满足日益增长的更高数据通信量需求的首选的关键属性。铌酸锂 (LN) 以其出色的电光、压电和非线性光学特性...
UK-based plasma etch and deposition processing system maker Oxford Instruments Plasma Technology (OIPT) and ULVAC Inc of Chigasaki, Kanagawa, Japan have announced a collaboration to bring leading-edge deposition and etch technology solutions to gallium nitride (GaN)- and silicon carbide (SiC)-based...
重点研究领域是异构集成、系统级封装、传感器、执行器和微系统、射频和毫米波、SiC/GaN-on-SiC电力电子和MedTech。有关IME的更多信息,请访问www.ime.a-star.edu.sg. 关于ULVAC 成立于1952年,ULVAC(日本爱发科株式会社)开发出了各种真空技术,为工业发展做出了贡献。在这些独有技术基础上,通过多年长期的研发和生产...
本次展会,ULVAC集团创新地展示了与合作伙伴的最新产品成果,呈现了在TMR磁传感器、PZT超声波换能器、VOx非制冷红外、新型微显示以及GaN HEMT等方向的全面技术实力,获得了来自业界同僚、客户的广泛关注及好评。 02 专题研讨会 3月27日,ULVAC集团举办了“赋能‘芯’未来”—2025ULVAC前沿技术研讨会暨新品发布会。新品发...