UiO-66由于其卓越的稳定性和可调性在光催化系统中扮演着至关重要的角色。然而,在原始材料的光激发过程中,有机配体到金属的电荷转移很少涉及。在此,我们使用一锅一步法成功地将几个Keggin型Cs2.5H0.5PW12O40(CsPW)整合到双金属金属有机框架(MOF)中,得到了一系列缺陷型CsPW@UNH(Hf-Zr)作为优化的可见光驱动产...
方法:一、利用溶剂热法制备了缺陷MOFs材料;二、通过合成后修饰法将磺酸基引入到已经合成的MOFs中,得到磺酸基修饰的含缺陷UiO‑66‑NH2二氧化碳还原光催化剂材料。本发明制备的磺酸基修饰的含缺陷UiO‑66‑NH2二氧化碳还原光催化剂材料在300W氙灯可见光照射下一氧化碳产生速率最高可达120.61 (19)国家知识产权局 ...
本发明公开了一种煅烧缺陷NH2‑UiO‑66及其合成方法和应用,涉及光催化固氮技术领域,包括:将NH2‑UiO‑66粉末放入到管式炉中,在N2气氛下以3～7℃min‑1的升温速率至100～300℃条件下进行煅烧20‑60min,煅烧结束后保温1～3h,得到煅烧缺陷NH2‑UiO‑66。
在本论文中,作者合成了两类缺陷型功能化的MOF,UiO-66-X(X=(SH)2,NH2),并将其用于水中重金属离子的吸附去除.其中缺陷型UiO-66-(SH)2用于重金属离子Pb(Ⅱ),Hg(Ⅱ)的去除,缺陷型UiO-66-NH2用于重金属离子Cr(Ⅵ)的去除,缺陷程度的增加导致了其重金属离子吸附能力的明显提升.相关结果阐述如下: 相比于传统...
66 ‑ nh2基衍生物制备高通量、无缺陷聚酰胺膜的方法 技术领域 1.本发明涉及一种反渗透复合膜及其制备方法,具体的涉及一种采用uio ‑ 66 ‑ nh2基原位制备高通量、稳定性、均匀性聚酰胺膜的方法,属于膜分离技术领域。 背景技术: 2.自反渗透膜制备工艺由相转化演变为界面聚合以来,膜结构也随之由传统的非对...