UIO66NH2是一种具有多孔结构的金属有机骨架材料,其骨架由金属离子和有机配体组成。其独特的结构赋予其在气体吸附、分离、催化等方面出色的性能,因此备受关注。 2.晶面间距的概念。 晶面间距是指晶体中相邻晶面之间的距离,是晶体结构的重要参数之一。对于UIO66NH2而言,晶面间距的大小直接影响其孔隙结构及其吸附性能。
鉴于锆基MOF的稳定性,在此我们以UiO-66为例开展了研究。 02 膜的制备与表征 如前所述,制备形貌规则的MOF纳米片是利用外延生长法制备取向超薄MOF膜的前提。在此我们利用WO42-作为刻蚀剂,基于不同晶面的原子密度和表面能差异,实现了对U...
首先利用WO42-作为刻蚀剂,基于不同晶面的原子密度和表面能差异,实现了对UiO-66八面体的各向异性刻蚀,首次制备得到了厚度约为40 nm的UiO-66纳米片。随后采用旋涂法制备了取向的UiO-66纳米片晶种层。在此基础上,受反扩散辅助生长法的启发,开发了以固相二硫化锆(ZrS2)作为金属源的限域反扩散辅助外延生长工艺。在外...
并且,使用双金属Zr/Ce-UiO-66进行选择性催化和阐明“结构-性能-关系”的研究鲜有报道。 03 研究出发点 1)采用“簇不稳定性”策略,构建了以Ce6-UiO-66为蛋黄、Zr6-UiO-66为壳层的蛋黄-壳结构(YSS),然后通过酸处理和热处理分别制备成单壳...
(i)SSHS的PXRD。YSS-1和YSS-2的(j)N2等温线和(k)Zr:Ce比率。(l)左图:SSHS的STEM,中间:UiO-66中的{224}和{001}晶格平面,右图:{224}晶面在UiO-66的{001}格面上的投影。(m)YSS-2和SSHS-2经NaOH消化后的D2O溶液的1H NMR。整合显示了剩余配体和配位HOAc的比例。比例尺均为200 nm。
以本实例产物为例,得到UIO-66材料522.6mg,产率为78%;图1是所得UIO-66的扫描电镜图,可知所得UIO-66为八面体颗粒,晶面规整,粒径均一。图2是所得UIO-66的X射线衍射图,由图可知所得UIO-66具有明显晶型结构。图3为所得UIO-66的N 2 吸附-脱附曲线,可知所得UIO-66的BET比较面积为1115m 2 /g。图4为所得...
纳米颗粒分布于UiO-66的每个晶面。说明UiO-66与SnS 2 进行了有效地结合且成功制备了正八面体UiO-66负载硫化锡纳米颗粒复合光催化材料。 (2)红外光谱(FT-IR)分析: 制备的SnS 2 NPS@UiO-66粉末,通过溴化钾压片,得到红外光谱图如图3所示。图中,3600~3200cm -1 宽峰归属于水中羟基(-OH)的伸缩振动吸收峰。UiO...
14.2°、17.1°、22.3°、25.7°、33.1°处出现衍射峰,分别对应着UiO‑66(Zr/Cu)的(111)、(002)、(022)、(113)、(004)、(115)、(224)和(137)晶面,与文献报道的一致,表明UiO‑662+(Zr/Cu)的成功制备。此外,从XRD谱图中不能观测到Cu 氧化物或其他与铜相关的杂质峰,说明铜离子掺杂并没有改变材料的...
[0068]图1为实施例1‑5制备的MOF型羟基化UiO‑66有机染料吸附剂的XRD谱图,由图1可知,实施例1‑4制备的吸附剂在位于2θ=7.33°,8.47°,25.68°的特征峰分别与(111)、(002)和(224)晶面相对应。所合成的样品在特征峰位置及强度上均与其他相关报道基本一致,可见实施例1‑4采用溶剂热法引入羟基合成的MOF型...
应用,包括以下步骤:(1)将ZrCl4和对苯二甲酸加入DMF中混合,加入HAc得到混合溶液;(2)混合溶液超声处理结晶,过滤干燥得到UiO‑66白色晶体,(3)将二水合氯化铜(CuCl2·2H2O)/二水合硝酸铜(Cu(NO3)2·2H2O)加入DMF溶液中超声溶解,(4)UiO‑66晶体与步骤(3)中得到的溶液混合,反应结束后得到Cu修饰的UiO‑66吸附...