一种等离子氧除臭杀菌按摩脚盆,其特征在于包括脚盆、等离 子氧发生器100、以及将等离子氧发生器100所产生的等 离子氧气体经高于按摩脚盆最高水位处输送到盆底出气口20 0的输气管300,所述等离子氧发生器100包括装有等离 子氧发生元件的气室105、产生可以驱动等离子氧发生元件 的电路单元103以及不断对气室105产生压力...