对背沟道刻蚀型TFT结构的阵列面板,根据需要制作的膜层的先后顺序和各层膜间的相互关系,其主要工艺流程可以分为 5 个步骤(5 次光照)。 第一步:栅极(Gate)及扫描线形成 具体包括:Gate 层金属溅射成膜,Gate 光刻,Gate 湿刻等工艺制程(各工艺制程的具体介绍在随后的章节中给出)。经过这些工艺,最终在玻璃基板上形...
取向工艺的目的是在TFT 和CF 基板上制作一层透明的PI 膜,经摩擦后,使液晶分子沿摩擦方向排列。其原理请自己查看相关文献。所以在这一块,有两个主要的工艺制程:PI 印刷和摩擦。 1、PI 印刷 PI(Polyimide)是一种透明的有机高分子材料,有主链和侧链,经涂布烘烤后,会牢固地附着在CF 和TFT 基板表面。PI 的涂布...
电子厂工艺流程介绍ltps tft lcd制程.pptx,;内容;TFT-LCD的结构;(ARRAY-TFT阵列);(背光源);LTPS TFT工艺概述;LTPS TFT工艺概述;LTPS TFT-LCD制程之Thin Film;物理气相沉积(PVD):物理气相沉积分为蒸镀和溅镀 1、蒸镀:将被蒸镀物体加热(电阻式或电子束),利用其在高
1、Confidential, unpublished property of L 涂胶设备: Silt coater、 LPD ; 显影设备: Developer; 烘烤设备: 脱水、前烘、后烘设备; 冷却设备等,Track设备的工作流程示意图,LTPS TFT-LCD制程之Photo,1)清洗设备 本工序的目的是要在PR(光刻胶)涂敷之前对玻璃基板进行彻底清洁,便于增强玻璃基板与PR的粘合力,...
电子厂工艺流程介绍:LTPS TFT-LCD制程介绍.pptx,LTPS TFT-LCD之ARRAY制程Confidential, unpublished property of LK. Do not duplicate or distribute ? LK Engineering Co., Ltd. 2006内容1.1 LTPS TFT-LCD显示器简介1.2 LTPS TFT之Array1.2.1 Thin film1.2.2 ELA1.2.3 Ph
©L&KEngineeringCo.,Ltd.2006LTPSTFT的工艺主要分为三大类: 成膜制程(ThinFilm) 光刻制程(Photo) 蚀刻制程(Etching)玻璃基板投入后,先经过成膜制程,然后进入光刻制程,最后送入蚀刻制程,这样一道光罩的工序就基本完成了,而完整的LTPSTFT通常需要7~11次光罩,所以每完成一道光罩都需要循环一次,直到最后LTPSTFT的完成...