当样品高度(Z 轴方向)设置在优中心位置时,样品可绕其轴线倾斜,而不会在投影屏幕上移动。 可以通过将物镜电流调整到特定电压(如 80kV、100kV 或 200kV)的已知设置来设置优中心高度,然后升高或降低Z高度,直到图像对焦。摇摆器"wobbler"按钮可用作聚焦辅助工具,将振动的分割图像合...
200 kV透射电镜 Spectra 200 TEM 用于30-200 kV 加速电压的高分辨率和对比度成像 宽间隙极片设计为 5.4 mm 的对称 S-TWIN/X-TWIN 物镜 60 kV-200 kV 范围的亚埃 STEM 成像分辨率 下载数据表 200 kV冷冻透射电镜 Glacios 冷冻 TEM 可变的加速电压 80-200 kV ...
多功能电子显微镜JEM-2100PLus采用多级聚光镜设计，在任何束斑尺寸下均可提供高亮度电子束，包含聚光镜光缆、衬度光缆、选区衍射光缆，大大提高了分析和衍射成像能力。图：多功能电子显微镜JEM-2100PLus 采用六硼化镧灯丝为发射源，加速电压可在80至200kV间高效，放大倍数最高可达2nm，大大提升了测试样品的种类，同时...
STEM 分辨率:60 pm (136 pm @ 30 kV) 未: 能量扩散:0.4 eV 信息限制:110 pm STEM分辨率:164 pm 源 X-CFEG:能量分辨率为<0.4 eV的超高亮度冷场发射枪 灵活的高压范围:30 – 200 kV 分析和检测器 Super-X/Dual-X EDS 选件、集成软件和 Gatan Ultrafast EELS/DualEELS 选件共同提供高达 1000 sp/s 的...
2.参考标准:500nm(单质铁,200kv) 3.拍晶格的区域要在100nm以下,越薄越好。 正是因为透射电子的穿透能力是有限的,如果样品过厚,就会显示黑色,所以通常要求用于TEM观察的样品要足够小足够薄。这里所说的厚度是垂直厚度,纳米材料的厚度往往是不均一的,一般中间厚,边缘薄,只要边缘足够薄,通常情况下都是可以拍摄的...
赛默飞200 kV透射电镜Spectra 200 TEM的技术特点和独有技术特征,包含仪器所使用的技术、独特性、技术特征等信息,赛默飞透射电镜TEM,一款适用于所有材料科学应用的高通量、像差校正(扫描)透射电子显微镜
减少对样品的干扰，从而获得更清晰的图像。不过，这种选择的前提是使用高分辨率电子显微镜，即加速电压在200kV以上的设备。如果使用的是100kV的电子显微镜，那么选择微栅膜可能就没有那么必要了在选择碳支持膜时，需要根据样品的特性、所需分辨率以及使用的电子显微镜的性能来综合考虑，以确保获得最佳的观测效果。
对100~200kV透射电镜来说，需要50~100nm厚的试样作为高分辨率透射电镜，试样厚度需要15nm左右（越薄越好）。现将透射电子显微学最常用的几种制样方法介绍如下：1.粉末法 该方法也称为悬浮液法，适于制备其粉末能为电子穿透的试样，例如碳黑和粘土矿物。若粉末样品在半固结的情况下，可用玛瑙研钵轻轻捣匀，再按照...
2.参考标准:500nm(单质铁,200kv) 3.拍晶格的区域要在100nm以下,越薄越好。 正是因为透射电子的穿透能力是有限的,如果样品过厚,就会显示黑色,所以通常要求用于TEM观察的样品要足够小足够薄。这里所说的厚度是垂直厚度,纳米材料的厚度往往是不均一的,一般中间厚,边缘薄,只要边缘足够薄,通常情况下都是可以拍摄的...
制作生物材料（切片样品）时选择200或150目的铜网碳支持膜较为合适。若制作纳米材料（50nm以下）并查看高分辨像时，则最好选用微栅膜；若制作纳米材料（10nm以下），样品分散性非常好，最好选择超薄碳支持膜。当然，前提是使用高分辨电子显微镜（200kV以上）。若采用100kV电镜则无必要选择微栅膜。