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是指旋涂于光刻胶与Si衬底界面用以吸收光刻反射光的物质。在光刻工艺中，晶圆衬底一般为玻璃或金属，此...
广信材料公告,公司募投项目“年产5万吨电子感光材料及配套材料项目”之“11300t/a自制树脂及7000t/a内层油墨”已获龙南市应急管理局同意试生产,试生产期限为2025年4月2日至10月1日。此外,公司PCB光刻胶(PCB油墨)、自制树脂等子项目也已获得批复并进行试生产。该项目整体达产后,将进一步丰富公司产品在多个领域的...
5. 昨日 SORA 等板块回流,调整时间较长,观察头部 TOP3 个股,关注游戏板块带动效应及今日是否有持续放量。 6. 分析宠物和新零售板块是否存在两轮行情,做 T 时注意持仓股数。 7. 关注光刻机、光刻胶板块持续度,昨日上午冲高后下午回落,观察今日硬科技板块成交量。若成交维持万亿左右,暂不关注该板块。 0526...
该文采用了干法转移步骤制备了 MoSe_{2}/GeSe和T- MoSe_{2}/GeSe/B- MoSe_{2} 异质结,通过在材料表面旋涂光刻胶,再使用托托科技的TTT-07-UV Litho-ACA无掩膜版紫外光刻机制备相应电极图形后,进行电极沉积并完成器件制备。随后通过 Silvaco TCAD 模拟和理论计算,证明了 GeSe 中间层在器件中完全耗尽,可以有...
事实上，掩模上的图案与最终特征完全不相似，计算光刻模拟了光通过光学元件并与光刻胶相互作用时的行为，这些行为是麦克斯韦方程组描述的。计算光刻是芯片设计和制造领域中最大的计算工作负载，每年消耗数百亿CPU小时，大型数据中心24 x7全天候运行，以便创建用于光刻系统的掩模版。这些数据中心是芯片制造商每年投资近2000...
| SU-8胶 | 正性光刻胶 | 负性光刻胶 去胶显影 > | 剥离液 | 显影液 电镀> | 霍尔槽 | 无氰Ag电镀液 | 无氰Au电镀液 衬底> | 硅片 | 玻璃片 | 石英片 | 蓝宝石片 | ITO片 | GaAs | AlN | GaN 高纯靶材 > | 圆盘靶材 | 环形靶材 | 颗粒靶材 辅助设备 > | 匀胶机 ...
第二类是聚酰亚胺液晶取向剂,液晶显示器的“心脏”,一直由日产化学、JSR等垄断。目前正在与国内TOP.1芯片设计企业开发世界领先的“超超低温”型光敏性聚酰亚胺光刻胶产品,以满足新一代2.5D、3D以及Chiplet(芯粒)等最前沿先进封装技术的需求。 其次是公司在行业内的技术门槛: ...
经销商:￥2859 内部:￥2859 总销售量:96件 规格: ACST-20,20根/盒ACSTA-20,20根/盒ACST-10,10根/盒ACSTA-10,10根/盒ACST-50,50根/盒ACSTA-50,50根/盒 弹性系数: 7.8N/M 反射面镀层: AlNone 购买数量: - + ( 商品库存:100 ) 购买此商品可使用:0 积分 ...
沉积速率通过石英晶体监控仪实时监测，波动范围不得超过±0.1Å/s。多层薄膜沉积时，每完成一层需停机15分钟进行应力释放。图形化处理包含光刻与蚀刻两阶段。涂胶厚度1.5μm，前烘温度90℃持续90秒，对准精度要求±0.5μm以内。曝光能量根据光刻胶型号调整，通常控制在120-150mJ/cm²。显影后检查图形完整性，...