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SU-8 2000光刻胶通常用常规的UV(350-400 nm)辐射曝光,尽管建议使用i-line(365 nm)波长。 SU-8 2000也可能会受到电子束或X射线辐射的照射。 曝光后,交联在两个步骤中进行(1)在曝光步骤中形成强酸,然后(2)在曝光后烘烤(PEB)步骤中进行酸催化的热驱动环氧交联。 正常过程是:旋涂,软烤,曝光,PEB,然后显影。
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