SU-8 2015光刻胶作为一种常用的负型光刻胶,具有出色的性能和广泛的应用领域。本文将详细介绍SU-8 2015光刻胶的参数及其相关内容。 一、化学成分: SU-8 2015光刻胶主要由光敏剂、稀释剂和助剂组成。其中,光敏剂是一种具有光敏性的化学物质,能够在紫外光照射下发生化学反应。稀释剂主要用于调节光刻胶的黏度和...
型号SU8 2005/2015/2025/2100/2075/3050 颜色 透明 包装 100ml分装 厚度范围 0.1~200UM 分辨率 0.5Um 旋涂转速 500~2500rbm 公司资质 齐全 公司实力 雄厚 品牌 su-8 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发...
光刻胶型号6 SU8 2015 单层匀胶厚度 0.5~200um 感光波长 350~400nm 推荐光刻机型号 Cchip-0019型光刻机 可售卖地 全国 类型 环氧树脂光刻胶 型号 SU-8 2000.5/2002/2005/2010/2015 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同...
元器件 > 晶体/晶振 > 无源晶体 > LISM > LISMSU-8光刻胶 克斯巴金属加工专营店 关注店铺 手机下单 进店逛逛|关注店铺 关注 国产SU-82005/2010/2015/2025/2050/2075/2100/3050光刻胶 SU-8 2015(500ml) 品牌名称 LISM 京东价 ￥降价通知 累计评价 ...
如题,光刻胶用的su8-2015,胶已经过期了,不过一直避光在冰箱里保存,应该还好。想在硅片上做一些40*40um的正方形槽,深度30um左右。工艺参数的话:前烘65℃-15min95℃-30min曝光时间20s后烘同样65℃-15min95℃-30min参数是之前的师兄师姐留下的,所以问题应该不大我做了几
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www.nature.com/scientificreports OPEN received: 17 July 2015 accepted: 18 November 2015 Published: 04 January 2016 Single-photon-multi-layer- interference lithography for high- aspect-ratio and three-dimensional SU-8 micro-/nanostructures Siddharth Ghosh1,2 & G. K. Ananthasuresh1 We ...
型号SU-8 2000.5/2002/2005/2007/2010/2015 进口SU-8光刻胶系列,克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形。 SU 8光刻胶系列产品简介 ...
SU-8 2015 13-38μm 100ml;250ml;500ml;1L MicroChem SU-8 负胶 SU-8 2025 20-80μm 100ml;250ml;500ml;1L MicroChem SU-8 负胶 SU-8 2035 35-120μm 100ml;250ml;500ml;1L MicroChem SU-8 负胶 SU-8 2050 40-170μm 100ml;250ml;500ml;1L ...
商品名称:国产SU-82005/2015/2025/2050/2075/2100/3050光刻胶 SU-8 2005(100ml) 商品编号:10092352053338 店铺:OIMG工业品旗舰店 货号:tb_663279958762 行业应用:其它 更多参数>> 商品介绍加载中... 售后保障 卖家服务 京东承诺 京东平台卖家销售并发货的商品,由平台卖家提供发票和相应的售后服务。请您放心购买!