SU-8光刻胶?SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性;在受到紫外辐射后发生交联,是一种化学扩大负性胶,可以形...
Microchem SU 8光刻胶系列产品简介 新型的化学增幅型负像SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶,克服了普通光刻胶采用UV光刻导致的深宽比不足的问题,十分适合于制备高深宽比微结构。SU- 8 光刻胶在近紫外光(365nm- 400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具...
microchem光刻胶 SU-8 2000 性环氧负性光刻胶microchem 光刻胶SU-8 2000系列性环氧负性光刻胶:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075,SU-8 2000是一种高对比度的环氧树脂基光刻胶,适用于微加工和其他微电子应用领域,需要厚、化学和热稳定的图像。SU-8 2000是SU-8的改进配方,多年来被MEMS生产厂...
产品名称 MicroChem 光刻胶负性光刻胶 SU-8系列 产地 日本 是否进口 是 服务 完善 品质 保障 售后 齐全 可售卖地 全国 型号 SU-8系列 MicroChem 光刻胶负性光刻胶 SU-8系列 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同...
SU-8光刻胶属于厚胶Thick Resist,常见的SU-8有SU-82000.5/SU-82000.2/SU-82007/SU-8 3000系列负性光刻胶/SU-8TF6000系列负性光刻胶/SU-8 3050负性光刻胶。常被用于微机械加工及其他微电子应用领域,如制作电镀模具,传感器,微纳结构等。 2-甲基-2-金刚烷醇丙烯酸酯[249562-06-9]C14H20O2 ...
我们的microchem光刻胶 SU-8 2000 系列负性光刻胶,是专门针对负性光刻胶生产而设计的新型产品。该光刻胶具有高解别率和较长的显影时间,可适用于微机电系统、生物芯片和光学元件等领域。赶快按下搜索关键词,了解更多关于SU-8光刻负胶的信息。商品关键词:microchem光刻胶;负性光刻胶生产;su-8光刻负胶。
SNR负性光刻胶,针对微机械加工微电子应用,高对比度,环氧树脂类负性光刻胶。具有垂直侧壁的高纵横比成像近紫外(350-400nm)处理单旋涂膜厚度为1.5至200µm高度耐化学性和耐温度性与已建立的SU-8光刻工艺兼容 详细介绍 负性光刻胶 (SU-8)-光刻机用 SNR负性光刻胶,针对微机械加工微电子应用,高对比度,...
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电子束光刻胶SU-8 GM1010电子束呈现负性,具有高宽比大、侧壁垂直、耐化学性优异、单次旋涂可得超厚膜层(100μm)、金属的粘附性好的性质,适用于微细加工及其他微电子应用。例如:传感器、微流体元件、体硅器件、电镀及电铸、凸点制造等领域。 紫外负性光刻胶 ...
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