1、光刻:制备掩膜版、旋涂光刻胶,采用常规365nm的波长曝光。可通过添加抗反射涂层到衬底上减少不必要的反射,以实现更准确的特征尺寸控制,同样地,SU-8也可以通过结合紫外线光刻技术和立体光刻技术,实现SU-8三维结构的制造。 2、去除:可采用热NMP、硫酸/过氧化氢或专门的去除剂(...
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苏州汶颢su-8光刻胶 据第三方机构智研咨询统计,2019年全球光刻胶市场规模预计近90亿美元,自 2010年至今CAGR约5.4%。预计该市场未来3年仍将以年均5%的速度增长,至2022年全球光刻胶市场规模将超过100亿美元。光刻胶按应用领域分类,可分为 PCB 光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。全球市场上不...
在紫外光的照耀下，三芳基碘盐光敏剂被激活，进而释放出活性碘离子。这些活泼的碘离子与SU-8光刻胶中的丙烯酸酯单体发生反应，从而引发单体间的交联，最终导致在曝光区域形成凝胶化的SU-8图案。SU-8的材料特性 SU-8是一种负性聚合物，具备抗近紫外线和热固性的特点。其高固体含量（介于72%至85%的重量比）使得...
SU-8光刻胶是一种常用的基于环氧树脂的负性光刻胶。负性指的是当光刻胶暴露于紫外线时,暴露部分形成交联,而剩余部分仍可溶解并在显影过程中被冲洗掉。SU-8的名字来源于其结构中的8个环氧基团,这些环氧基团可以…
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SU-8光刻胶 品牌:gersteltec 品牌:瑞士GES公司提供多种不同组成的、基于IBM开发的环氧树脂胶-SU-8及功能性SU-8光刻胶,能为您带来极具竞争力发展空间;可根据您的需要提供多种方便使用的、含有不同类型填料、色素、墨水以及溶剂如醋酸酯、芳香烃等的配料光刻胶产品。
SU 8光刻胶 负性光刻胶产品简介: 新型的化学增幅型负像SU-8胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶,克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题,十分适合于制备高深宽比微结构。SU-8 光刻胶在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂...