摘要:本发明公开了半导体集成电路领域内的一种金凸块晶圆高可靠性返工的工艺,包括如下步骤:Pre‑clean、去水烘烤、光阻涂布、高蚀刻电浆处理、金蚀刻、光阻去除、钛钨蚀刻、Scrubber清洗和AOI扫描。本发明针对长时间放置的晶圆产品,通过返工的方式,重新生长金凸块,从而降低晶圆金凸块久置产品芯片的压合不良率,进而降...
半导体Wet Clean的工艺介绍 热度: wet chemical clean process for semiconducter 热度: wet etch and clean - Entegris 热度: 相关推荐 WET SCRUBBER 清洗照片-Scrubber-clean,WET SCRUBBER 清洗照片-Scrubber-clean,WET,SCRUBBER,清洗照片,Scrubber,clean...
scrubber专用课件.ppt,Page 14 系统图片 系统描述 我们公司的CLEANSORB 产品,在清洁效率和易操作性上与同类产品相比有极高的优越性.在目前在世界上处于领先地位。CLEANSORB 产品对于处理在半导体生产过程中所产生的有害气体例如AsH3, PH3, Cl2,HCl, HF, F2等等有着特别好的
CLEANSORB产品对于处理在半导体生产过程中所产生的有害气体例如AsH3,PH3,Cl2,HCl,HF,F2等等有着特别好的效果。我们的产品还有下以下的特性: CLEANSORB废气净化器项目名称:IVO CLEANSYSTEMSSINGAPORE 20152015--1212--2626Page14Page1444 1,处理后的气体保证低于国际废气排放标准(TLV) 2,在正常的压力和温度下进行废气...
CLEANSORB 产品对于处理在半导体生产过程中所产生的有害气体例如AsH3, PH3, Cl2,HCl, HF, F2等等有着特别好的效果。我们的产品还有下以下的特性:,2020/7/25,Page 14,4,1,处理后 2、的气体保证低于国际废气排放标准(TLV) 2,在正常的压力和温度下进行废气处理(最大的安全) 3,消耗很低的能量(最高的效率比...
scrubber.ppt,Page 14 系统图片 系统描述 我们公司的CLEANSORB 产品,在清洁效率和易操作性上与同类产品相比有极高的优越性.在目前在世界上处于领先地位。CLEANSORB 产品对于处理在半导体生产过程中所产生的有害气体例如AsH3, PH3, Cl2,HCl, HF, F2等等有着特别好的效果。我