RIE-100型反应离子刻蚀系统是ME-3A/ME-6A型多功能磁增强反应离子刻蚀机的全新升级机型,设计更为简洁、紧凑,全自动化控制,触摸屏操作,加入了各种互锁功能及报警功能,更为安全可靠,操作简单方便。 系统特点: 1)He背冷结构可选配置; 2)自动化工艺控制; 3)多路气路:CHF3,CF4,SF6,O2等; 4)可选配摄像头,专用...
刻蚀机RIE-100 产品分类 原子层沉积系统(ALD) 刻蚀系统(RIE ICP ALE) 磁控溅射系统(PVD) 化学气相沉积系统(CVD) 光刻机(Mask Aligner) 集束型薄膜沉积系统(Cluster) 喷胶机 + 在线留言联系我们 详情描述 关键词: 高密度等离子体刻蚀机 双腔热型原子层沉积系统 ...
PlasmaPro 100 RIE The PlasmaPro 100 RIE modules deliver isotropic and anisotropic dry etching for an extensive range of processes. It is suitable for research and production customers, providing a controlled environment that improves process repeatability with load-lock and cassette-to-cassette options....
2. 反应离子刻蚀(RIE) 3. 可转换结构(包含可以进行各向同性和各向异性的等离子工艺)可拆卸的托盘构造。 等离子刻蚀机技术参数: 设备型号:PE-100 腔体尺寸:长方形腔体,长度305 x深度368 x高度305mm; 腔体材质:T-6铝合金一体成型; 腔体容积:34升;
2023年移动机器人rie e100实验指导书最新文章查询,为您推荐移动机器人rie e100试验指导书等相关热门文章,爱企查企业服务平台为你提供企业服务相关专业知识,了解行业最新动态。
catégorie toutes les catégories security bulletin customer advisory titre gravité catégorie mis à jour le aucune alerte n'est présente bienvenue sur la page d'assistance du produit ! série obi100 saisir un numéro de série pour voir le status de la garantie ce produit ne peut pas ...
OPT-RIE100-W 产品特点: ◆对比普通环形光源实现更高均匀性照明 ◆为粗糙表面目标提供均匀照明,消除表面微小差异 ◆采用设计独特的漫射板,将光线经过反射和散射,形成双向、高度均匀 的圆对称光场,可以将物体表面细微差异造成的干扰过滤掉,凸显坡度 急剧变化特征...
Nous produisons et vendons des couverts et des pièces orfèvrerie fabriqués en France destinés à la restauration haute gamme et à l'Hôtellerie de luxe
PECVD/RIE(PECVD/RIE) 所在单位: 吉林建筑大学 品牌/型号: 美国nano-master,NRP-4000 所在地区: 吉林省 仪器说明: 我们目前尚未与吉林建筑大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求,委托我们帮您联系相关单位。如果您选择...
刻蚀机RIE-100,机械手 简介(Description) 385个字符 (一般不超过200字符) 芯通通(北京)信息科技有限公司成立于2022年,公司宗旨是整合完善国产半导体装备产业化,建立国产装备核心设备的技术工艺,创造国产半导体装备的实用价值。公司现经营业务有半导体加工设备及工艺、集成电路核心自动化装备、半导体超高纯管阀件及实验室超...