reticle mask基本解释 掩模;中间掩模 分词解释 reticle十字线,刻线 mask面具 猜你喜欢 behind the mask面具之后 the mask面具 moisture mask保湿面膜 liar mask骗子面具 masked bitch蒙面婊子 auditory masking听觉掩蔽 face mask面罩 gas mask防毒面具 masking agent
mask 是从早期接触式曝光的时候接近1:1的说法，reticle 是后续 步进投影式光刻机出现之后为了区分而命名...
Reticle和Full-Mask最直观的区别在于覆盖晶圆的范围。 Reticle:仅覆盖晶圆的一部分(例如单个芯片区域)。使用时需通过步进扫描仪(Stepper)多次移动晶圆,重复曝光以覆盖整个晶圆表面。例如,若晶圆包含100个芯片,需通过多次对准和曝光逐步完成。 Full-Mask:一次性覆盖晶圆的整个曝光区域,图案...
网络释义 1. 中间掩模 电器电子专业英语词汇 ... reticle image 中间掩模图像reticle mask中间掩模reticle masking 中间掩模掩蔽 ... www.chuandong.com|基于26个网页
OPC Mask:上面讲的是普通光罩,但是实际情况是光有近似效应(Optical Proximity effect),在转角会变圆(Corner rounding)或者在线条末端变短(Line-end shorting),在相邻线条之间会变细等问题,所以衍生出光学近似补偿(OPC: Optical Proximity Compensation)的光罩(OPC mask),当然这有一套严格的仿真算法,并且要最终收集实际...
- A reticle is defined as a tool that contains a pattern image that needs to be stepped and repeated in order to expose the entire wafer or mask. - Reticles have two major applications: 1) printing of images directly onto wafers in equipment known as step-and-repeat aligners; and 2) ...
光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask/Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上1。 二、光刻掩膜版的构成 待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成1。
在LCD工厂中，使用的掩膜板称为FMM（Fine Metal Mask）掩膜板，主要用于在LCD面板制造中，对液晶材料进行精确控制，以实现显示所需的图案。而在半导体制造工厂，即通常所说的Fab厂，使用的掩膜板同样被称为掩膜板或光罩，它在集成电路制造中扮演着至关重要的角色。掩膜板上具有精细设计的图案，用于指导...
Expose the workpiece through the reticle mask. Reposition the workpiece by a nanostep. Then expose the workpiece through the reticle mask after the repositioning. Test whether the plural exposure process is finished. If the result of the test is NO the process loops back to repeat some of the...
掩膜版又称光掩模、光罩、掩模版,英文为Photomask 、Mask或Reticle,是微电子加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。掩膜版作为图形信息的载体,通过曝光过程,将图形转移到基体材料上,从而实现图形的转移。 掩膜版缺陷检测是半导体光刻工艺中的关键环节,旨在检查掩膜版并识别修复其上的缺陷。掩膜版作为光刻工艺中至关重...