Etch:形成对刻蚀工艺的全覆盖,具有对硅、深硅、金属、介质、化合物半导体等多种材料的刻蚀能力 PVD:高温AI、TaN、TTN等材料AL PAD、铝线、热铝等多种工艺 CVD:氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉积工艺 氧化扩散:集成电路、先进封装、电力电子(IGBT)、微机电(MEMS)、光伏电池制造氧化、扩...
尚积半导体12寸PVD及CVD设备交付成功近日，备受瞩目的尚积半导体研发的12寸PVD及CVD薄膜沉积设备，已顺利交付至国内一家顶尖客户手中。这一重要里程碑的达成，不仅彰显了尚积半导体在半导体设备领域的实力，更意味着其产品已成功进入12寸半导体产线，成为行业佼佼者。此次成功交付的尚积半导体12寸PVD及CVD设备，不仅配备了...
CVD方法覆盖前段和后段工艺的大部分薄膜,是应用最广泛的薄膜沉积技术,CVD占整体市场大约75%,其中PECVD/ALD/LPCVD分别占整体市场33%/11%/11%;PVD最主要用于沉积金属薄膜,而金属薄膜用于后段工艺中的金属层和前段的金属栅极,应用场景相较CVD有限,PVD占整体市场比例大约19%;SACVD及其他设备最主要用于填孔,典型应用场景...
CVD业务范围 (1)提供LAM(vector、altus、speed)、AMAT(centura、producer)、TEL(Trais)等机型的2nd Showerhead,已在多家fab验证通过,可保证品质。 (2)CVD ceramic heater 销售,可提供原厂与2ND产品。 (3)陶瓷件供应,原厂、2ND、可根据客户要求进行定制。 (4)ESC新品供应与维修如Amat Ultima 0040-48594 ETCH...
据国家集成电路设计无锡产业化基地消息,尚积半导体于近日成功交付了一批12寸PVD&CVD薄膜沉积设备给国内某头部客户,标志着尚积半导体的产品成功跻身12寸半导体。 尚积半导体是一家专业研发、生产半导体国产自研设备的厂商。主营设备包括金属溅射沉积(PVD)、加强型等离子化学气相沉积(PECVD)、等离子干法刻蚀(ETCH)等,主要服务...
CVD: Chemical vapor deposition. 用化学气体反应形成薄膜的方法。一般会有炉管。 PVD: Physical vapor deposition. 用物理过程形成薄膜的方法,如磁控溅射,即电子束沉积(E-beam evaporation)、热沉积(thermal evaporation) 58. Epitaxy 外延生长。是复制原有晶格,并进行生长的过程。是一种选择性生长技术。先进工艺里面...
集微网消息,据国家集成电路设计无锡产业化基地消息,尚积半导体于近日成功交付了一批12寸PVD&CVD薄膜沉积设备给国内某头部客户,标志着尚积半导体的产品成功跻身12寸半导体。 尚积半导体是一家专业研发、生产半导体国产自研设备的厂商。主营设备包括金属溅射沉积(PVD)、加强型等离子化学气相沉积(PECVD)、等离子干法刻蚀(ETCH)...
尚积半导体12寸PVD及CVD设备顺利交付近日,我区人才企业尚积半导体研发生产的12寸PVD及CVD薄膜沉积设备顺利交付国内某头部客户,标志着尚积半导体的产品成功跻身12寸半导体产线。本次尚积半导体交付的设备配备了高精度温度、压力、功率及气流控制系统,确保沉积过程...
近日,协会副会长单位无锡投控集团旗下领航公司在投企业尚积半导体研发生产的12寸PVD及CVD薄膜沉积设备顺利交付国内某头部客户,标志着尚积半导体的产品成功跻身12寸半导体产线。 本次尚积半导体交付的设备配备了高精度温度、压力、功率及气流控制系...
formation: TSV etch, CVD liner & liner etch and PVD. The unique advantageof such an approach enables dramatically shortened TSV development time.With all three process technologies (etch, PVD and CVD) on board, theVersalis fxP offers much smaller footprint, compared to three individualsystems, ...