PVD工艺与传统的化学气相沉积（CVD）、电镀等表面处理技术相比，具有更低的加工温度、更高的涂层附着力和更优的环境友好性。与电镀工艺相比，PVD不仅能够提供更均匀的涂层，还能在涂层硬度、耐磨性以及耐腐蚀性方面提供更好的性能。此外，PVD工艺能够在不同的基材上沉积出多种不同的材料，包括金属、合金、陶瓷等，使...
①氮化钛涂层(TiN) TiN是一种通用型PVD涂层,可以提高刀具硬度并具有较高的氧化温度。该涂层用于高速钢切削刀具或成形工具可获得很不错的加工效果。 ②氮碳化钛涂层(TiCN) TiCN涂层中添加的碳元素可提高涂层硬度并获得更好的表面润滑性,是高速钢刀具的理想涂层。 ③氮铝钛或氮钛铝涂层(TiAlN/AlTiN) TiAlN / AlTi...
所谓的免烘料注塑机,各位大佬有什么看法?评论区回复#注塑#模具#塑料#注塑培训#注塑机#注塑帮#注塑调机#科学注塑#塑料培训#塑料教学#调机#模具制造#模具设计#注塑招聘#注塑参数#模具涂层# PVD涂层#二手注塑机#螺杆#注塑机螺杆#注塑机炮筒#螺杆三件套#注塑工艺#注塑行业#科学试模#科学注塑 ...
pvd涂层常见的加工工艺 1.pvd涂层加工工艺有:真空泵镀膜和涂装工艺等。 真空泵镀膜包含:磁控溅射法,电孤等离子喷涂法等,假如在镀膜全过程中通快递入N2能够 产生氮化钛,镀层颜色橙黄色,不然乳白色。该方式镀层薄,一般在15个μm上下,镀层明亮不用事后生产加工。喷漆的方式有冷喷漆法。镀层厚厚的能够 做到mm数量级,表...
PVD工艺的主要类型及特点 磁控溅射 原理:磁控溅射利用磁场控制等离子体中的离子轰击靶材(即溅射靶),使靶材原子或分子被溅射出来,并在基材表面沉积形成薄膜。这一过程在真空环境中进行,通过调整磁场可以有效控制溅射过程,从而优化薄膜的性质。 特点 涂层质量高:可以获得均匀、致密的薄膜,具有良好的附着力。
PVD工艺的主要类型及特点 磁控溅射 原理:磁控溅射利用磁场控制等离子体中的离子轰击靶材(即溅射靶),使靶材原子或分子被溅射出来,并在基材表面沉积形成薄膜。这一过程在真空环境中进行,通过调整磁场可以有效控制溅射过程,从而优化薄膜的性质。 特点 涂层质量高:可以获得均匀、致密的薄膜,具有良好的附着力。
PVD工艺的主要类型及特点 磁控溅射 原理:磁控溅射利用磁场控制等离子体中的离子轰击靶材(即溅射靶),使靶材原子或分子被溅射出来,并在基材表面沉积形成薄膜。这一过程在真空环境中进行,通过调整磁场可以有效控制溅射过程,从而优化薄膜的性质。 特点 涂层质量高:可以获得均匀、致密的薄膜,具有良好的附着力。
PVD工艺的主要类型及特点 磁控溅射 原理:磁控溅射利用磁场控制等离子体中的离子轰击靶材(即溅射靶),使靶材原子或分子被溅射出来,并在基材表面沉积形成薄膜。这一过程在真空环境中进行,通过调整磁场可以有效控制溅射过程,从而优化薄膜的性质。 特点 涂层质量高:可以获得均匀、致密的薄膜,具有良好的附着力。
PVD工艺的主要类型及特点 磁控溅射 原理:磁控溅射利用磁场控制等离子体中的离子轰击靶材(即溅射靶),使靶材原子或分子被溅射出来,并在基材表面沉积形成薄膜。这一过程在真空环境中进行,通过调整磁场可以有效控制溅射过程,从而优化薄膜的性质。 特点 涂层质量高:可以获得均匀、致密的薄膜,具有良好的附着力。