PLD:Pulsed Laser Deposition,脉冲激光沉积。相关知识点: 试题来源: 解析 纳米材料的应用: 1天然纳米材料.海龟、鸽子等生物的导航 2纳米磁性材料.磁记录材料 3纳米半导体材料。大规模集成电路器件、光电器件 4纳米传感器。温度传感器、红外线检测仪、汽车尾气检测仪 5纳米陶瓷材料。高强度、高韧性、高延展性的陶瓷 6...
pld沉积原理 PLD(Pulsed Laser Deposition)沉积原理:利用高强度脉冲激光轰击靶材,使之瞬间蒸发形成等离子体;等离子体在气体环境中传输,随后沉积在衬底上,冷却凝固形成所需薄膜。©2022 Baidu |由 百度智能云 提供计算服务 | 使用百度前必读 | 文库协议 | 网站地图 | 百度营销 ...
氦质谱检漏之脉冲激光沉积系统 PLD检漏 脉冲激光沉积系统Pulsed laser deposition 是制备高通量多晶薄膜, 外延薄膜和多层异质结构和超晶格结构的物理气相沉积设备, 通常需要保证本底真空度达到 10-8mbar，同时高真空环境对系统配置的RHEED 及温控系统等关键设备的寿命也至关重要。氦质谱检漏仪以其高精度和稳定性在PLD系...
脉冲激光沉积系统 Pulsed laser deposition 是制备高通量多晶薄膜, 外延薄膜和多层异质结构和超晶格结构的物理气相沉积设备, 通常需要保证本底真空度达到 10-8mbar, 同时高真空环境对系统配置的 RHEED 及温控系统等关键设备的寿命也至关重要。 PLD 系统需要高真空环境, 腔室是否有泄漏, 是否有内部材料放气等因素对实...
Lam Research24年3月的官方新闻中,宣称推出了一款名为Pulsus™的新系统,系在半导体生产中首次使用脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)技术来制作薄膜,并可实现晶圆级大规模生产。该技术能够沉积高掺Sc的AlN薄膜,Sc的比例可达40%(传统的沉积技术,如反应溅射,掺Sc饱和度约为30%),助力5G和Wi-Fi 6射频(RF)滤波...
Pulsed laser deposition (PLD)—a versatile thin film technique. In: Kramer, B. eds. (2003) Advances in Solid State Physics. Springer, Berlinpp. 101Krebs et al., “Pulsed Laser Deposition (PLD)—a Versatile Thin Film Technique”, Advances in Solid State Physics 2003, 43, 505-517....
脉冲激光沉积 (Pulsed laser deposition, PLD),就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积,利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离,使其能够脱离靶材而向基底运动,进而在基底上沉积,从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中,脉冲激光沉积技术的应用较为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化...
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被称为脉冲激光烧蚀(pulsed laser ablation,PLA),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。 发展历程 早于1916年,爱因斯坦(Albert Einstein)已提出受激发射作用的假设。可是,首部以红宝石棒为产生激光媒介的激...
其它降低颗粒物污染的沉积技术有:1)双光束激光沉积技术(dual-beam pulsed laser deposition),采用两个激光器或通过对一束激光进行分光得到两束激光,沉积时先让一束光使靶材表面局部熔化,然后让另一束光照射熔区使之转变为等离子体,从而减少液滴的产生。Mukherjee等先用脉冲CO2(10.6um,200ns)激光使一浅层的靶材表面...