PLD基本原理是利用高功率的准分子脉冲激光照射到一定组分比的靶材上,使靶的表面层(几十个纳米深)局部瞬间蒸发,产生含有靶材成分的等离子体羽辉(Plasma Plume),将衬底放在羽辉前与靶相对的合适位置处,等离子体羽辉中的物质被沉积在被加热的衬底表面上后形成薄膜,由于膜的沉积可在氧气气氛中进行,并且衬底通常加有比较...
一脉冲激光沉积(PLD)法制各NiZn铁氧体多晶薄膜研究、互59073褂晏摘要本文采用脉冲激光沉积(PLD)技术分别在硅(100)、玻璃基片上沉积了NiZn铁氧体薄膜,研究了成膜机制和制备高性能NiZn铁氧体薄膜的条件,并分析了薄膜的微观结构、磁性能与沉积过程的关系。通过SEM、XRD、VSM等分析表明:薄膜的主晶相为尖晶石结构,不...
采用脉冲激光沉积(PLD)法在单晶Si(100)衬底上生长ZnO薄膜,以X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM)和透射电镜(TEM)等手段分析了所得ZnO薄膜的晶体结构和微观形貌.优化工艺(700 ℃,20 Pa)下生长的ZnO薄膜呈c轴高度择优取向,柱状晶垂直衬底表面生长,结构致密均匀.室温光致发光(PL)谱分析结果表明,随着薄膜生长时O2...
脉冲激光沉积法(PLD)制备铁酸铋系薄膜的中期报告摘要:脉冲激光沉积法(PLD)是一种制备高质量薄膜的重要方法,具有高晶化度、高密度、高附着力等优点。本文采用PLD方法制备铁酸铋系薄膜,并进行了中期实验研究。实验结果表明,通过调整沉积参数,可以获得具有高结晶度和低表面粗糙度的铁酸铋系薄膜。关键词:脉冲激光沉积法...
<;p style="line-height: 250%; margin-top: 0; margin-bottom: 0">;<;b>;脉冲激光沉积法(PLD)制备纳米薄膜<;/b>;<;/td>; <;/tr>; <;tr bgcolor="#FFFFFF" align=center>; <;td width="1246" align="left" colspan="2">; <;p style="line-height: 250%; margin-top: 0; margin-bo...
相对于其它薄膜生长技术，脉冲激光沉积(P LD)技术具有独特的优点，如易于获得与靶材成分一致的优质外延膜(通过控制陶瓷靶材的成分有效地控制薄膜成分)，衬底温度可以很低，成膜速率高[33。因此本实验力图通过PLD的方法形成生长良好的Zn0纳米薄膜。1．1样品的制备 采用1cnl×l em Si(100)衬底。生长前对衬底进行丙酮...
【摘要】[目的]探究脉冲激光沉积法(PLD)制备InGaN薄膜时薄膜的厚度分布规律,以便于能够改善薄膜的均匀性.[方法]在实际情况中,靶材和基片并不平行,取任一无限小面积元近似作为平行靶材时的情况来分析,研究此处各项等效参数即可得到该处的膜厚.[结果]当靶材与基片的倾斜角为0°时,靶材激光照射点处的法线与基片相交处...
本发明公开了一种ZnO基稀磁半导体薄膜及其制备方法.方法一以分析纯的金属硝酸盐为原材料,通过水溶液共沉淀法得到掺杂的ZnO粉体,然后采用固相法烧结得到陶瓷靶材,再通过脉冲激光沉积法(PLD)制备成掺杂的稀磁半导体ZnO薄膜,或者同样以分析纯的金属硝酸盐为原... 林元华,张玉骏,罗屹东,... 被引量: 0发表: 20...
脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD 脉冲激光沉积系统Pioneer 120 PLD System 脉冲激光沉积系统180 Laser MBE/PLD 组合型脉冲激光沉积系统 Combinatorial PLD System 大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems 离子辅助脉冲激光沉积系统 Ion-Assisted PLD System...