PLD作为一种真空物理沉积方法,当一束强的脉冲激光照射到靶材上时,靶表面材料就会被激光所加热,熔化,气化直至变成等离子体(通常在气氛气体中)从靶向衬底传输,最后输运到衬底上的烧蚀物在衬底上凝聚,成核至形成薄膜。 激光与靶材相互作用 烧蚀物(在气氛气体中)的传输阶段 到达衬底上的烧蚀物在衬底上的成膜阶段 PLD基...
在表面工程技术课程中，PLD技术（物理气相沉积）起始于上世纪60年代激光技术的兴起。最初，人们发现强激光能熔化并蒸发固态物质，进而设想利用蒸发物在基片上形成薄膜。70年代，短脉冲Q开关激光器的出现为PLD的应用提供了基础，而80年代的准分子激光器技术则使得沉积高质量薄膜成为可能，如1987年美国贝尔实验...
在物理气相沉积领域，PLD技术（Pulsed Laser Deposition，脉冲激光沉积）作为一种高效薄膜制备手段，其发展历程和核心原理引人入胜。始于60年代激光器研究的启蒙，Q开关激光器在70年代的突破为其奠定了坚实基础。80年代，准分子激光沉积薄膜技术崭露头角，1987年美国科学家成功制备出超导薄膜，PLD技术自此迅速...
物理气相沉积系统 Adnano-tek中国区联系方式 于淼:152 2727 0411 yumiao@adnano-tek.com 约瑟夫森结 JEB 电子束蒸发 E-beam 磁控溅射 SPUTTER 脉冲激光沉积 PLD 分子束外延 MBE 离子束溅射 IBSD ALD/CVD 刻蚀系统 超高真空整合系统 系统监控组件 激光加热器...
PLD-5000系统,可以处理直径125毫米或多个较小的晶圆。 PLD技术原理 PLD作为一种真空物理沉积方法,当一束强的脉冲激光照射到靶材上时,靶表面材料就会被激光所加热,熔化,气化直至变成等离子体(通常在气氛气体中)从靶向衬底传输,最后输运到衬底上的烧蚀物在衬底上凝聚,成核至形成薄膜。[3] ...