PLD 依靠强大的准分子激光器进行各种薄膜的化学计量生产,从高级电池研究到超导带材的批量生产。 有许多方法可以生产用于电子、光学和光子应用的各种类型的薄膜,例如热蒸发、反应溅射、化学气相沉积。但近年来,脉冲激光沉积(PLD) 已成为许多新兴薄膜应用的首选技术,从纯粹的实验室研究工具过渡到支持现如今的批量制造。让我...
(8)可制膜种类多,几乎所有的材料都可用PLD 制膜,除非材料对该种激光是透明的。 脉冲激光沉积 (PLD)应用 在众多的薄膜制备方法中,脉冲激光沉积技术的应用最为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、...
脉冲激光沉积能够生长高质量的氧化物薄膜,是目前人们生长磁性氧化物薄膜的重要手段之一。常用的脉冲激光沉积系统主要由紫外KrF准分子激光器(波长248 nm)、聚焦光路、带有真空系统和气氛控制系统的腔体、基片加热台和旋转靶托组成。 脉冲激光沉积系统沉积薄膜的靶材为...
1.多组分薄膜:PLD可以用来沉积复杂的多组分薄膜,包括高温超导体、铁电材料、磁性材料等。 2.靶材与薄膜成分的一致性:由于PLD是一种非平衡过程,靶材的组成可以非常直接地转移到薄膜中,从而保持了靶材与薄膜之间的化学计量比。 3.高能量密度:脉冲激光提供的高能量密度可以蒸发大多数材料,包括非常稳定的化合物。 4.沉...
薄膜材料可以广泛应用在半导体材料、微电子器件、光电子器件、超导材料、生物材料等领域,随着科技进步,薄膜材料的重要性日益突出,其技术与应用研究不断深入。 脉冲激光沉积(PLD),也称为脉冲激光烧蚀(PLA),是利用高能量密度激光对靶材进行轰击,将轰击出来的物质沉积在衬底上,制备薄膜的一种技术。脉冲激光沉积的原理是,...
PLD基本原理是利用高功率的准分子脉冲激光照射到一定组分比的靶材上,使靶的表面层(几十个纳米深)局部瞬间蒸发,产生含有靶材成分的等离子体羽辉(Plasma Plume),将衬底放在羽辉前与靶相对的合适位置处,等离子体羽辉中的物质被沉积在被加热的衬底表面上后形成薄膜,由于膜的沉积可在氧气气氛中进行,并且衬底通常加有比较...
脉冲激光沉积(PLD)技术是20世纪60年代出现的一门新兴的薄膜制备技术。1965年Smith等进行了激光制膜的研究。脉冲激光沉积技术是制备薄膜一种重要的方法,在有机薄膜、有机-无机杂化薄膜以及多层有机薄膜的制备方面有其独特的优势。近年来,国内外开展了一些有机薄膜脉冲激光沉积的研究工作,并对该技术进行了发展和改进.近...
脉冲激光沉积（PLD）是一种创新的薄膜制备技术，它通过聚焦激光于靶材上，利用激光的高能量密度实现靶材局部蒸发或电离，沉积在基底上形成薄膜。PLD原理包括三个关键阶段：激光与靶材相互作用产生等离子体，等离子体形成后与激光相互作用进一步电离，以及等离子体在基片上成核、长大形成薄膜。在第一阶段，激光束...
根据本项目团队最新调研,预计2030年全球薄膜脉冲激光沉积 (PLD)产值达到 百万美元,2024-2030年期间年复合增长率CAGR为 %。 薄膜脉冲激光沉积 (PLD) 是一种专门的技术,通过使用高能激光脉冲在各种基材上形成材料薄膜。在此过程中,聚焦的激光束被导向目标材料,该材料通常是所需薄膜材料的固体来源。激光脉冲的强能量导致...
PLD沉积高电导金属氧化物RuO2薄膜 PLD沉积高导电金属氧化物RuO2薄膜薄膜生长摘要:敏键无vip电子材料快报