期刊点评 Plasma Chemistry And Plasma Processing创刊于1981年,由Springer US出版商出版,收稿方向涵盖工程技术 - 工程:化工全领域,此刊是中等级别的SCI期刊,所以过审相对来讲不是特别难,但是该刊专业认可度不错,仍然是一本值得选择的SCI期刊 。平均审稿速度 较慢,6-12周 ,影响因子指数2.6,该期刊近期没有被列入...
Plasma Chemistry and Plasma Processing《等离子体化学与等离子体工艺》 (官网投稿) 简介 期刊简称PLASMA CHEM PLASMA P 参考译名《等离子体化学与等离子体工艺》 核心类别 SCIE(2024版), 目次收录(维普), 知网外文库,外文期刊, IF影响因子 自引率 主要研究方向工程技术-ENGINEERING, CHEMICAL工程:化工;PHYSICS, ...
《PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING》 期刊名缩写:PLASMA CHEM PLASMA P 22年影响因子:3.337 issn:0272-4324 eIssn:1572-8986 类别:化学工程技术 学科与分区:物理、流体和等离子体(PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS) - SCIE(Q2)物理,应用(PHYSICS, APPLIED) - SCIE(Q2)工程、化学(ENGINEERING, CHEMICAL) - ...
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING SCISCIE 等离子体化学和等离子体处理 ISSN:0272-4324 研究方向:工程技术 出版周期:Quarterly 是否OA:No 国际简称:PLASMA CHEM PLASMA P 创刊时间:1981 年发文量:96 出版地:UNITED STATES 官网:http://www.springer.com/physics/classical+continuum+physics/journal/11090...
期刊大全 Plasma Chemistry and Plasma ProcessingEICAAJSCIEJSTJCR:Q3中科院3区JCR:Q2 发文量2,443 被引量54,074 影响因子(2023)2.951 Plasma Chemistry and Plasma Processing is an international journal that provides a forum for the publication of original papers on fundamental research and new developments...
期刊主页 plasma chemistry and plasma processing主页 期刊评价 您选择的plasma chemistry and plasma processing的指数解析如下: 简介:PLASMA CHEM PLASMA P杂志属于工程技术行业,“工程:化工”子行业的中等级别杂志。投稿难度评价:影响因子还可以,但是年接稿量不大,审稿时间偏长,但不是很难投中。 审稿速度:12周以...
Thermal Plasma Technology: Where Do We Stand and Where Are We Going? E. Pfender, "Thermal plasma technology: where do we stand and where are we going?" Plasma Chemistry and Plasma Processing, vol. 19, no. 1, pp. 1... E Pfender - 《Plasma Chemistry & Plasma Processing》 被引量: 430...
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING 影响指数:3.170期刊ISSN:0272-4324年文章数:91国人占比:0.18 自引率:13.30%版面费:US$3390审稿周期:Quarterly是否OA:否 JCR分区:Q2中科院分区:Q2出版国家/地区:UNITED STATES是否预警:不在预警名单内 相关指数 影响因子...
plasma chemistry and plasma processing 期刊信息 基本信息期刊全称 plasma chemistry and plasma processing 期刊简称 Print ISSN 0272-4324 Online ISSN 1572-8986 期刊出版社 是否开放获取 Open Access,OA 否官网地址 期刊所属领域 期刊简介 JCR分区索引信息2021年数据 ...
Plasma deposition and plasma conversion can be characterized by five steps: production by ionization, transfer of chemistry to precursors, transport of radicals to the surface, surface surface interactions with deposition, recirculation and generation of new monomers. For very fast deposition, large ...