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PR光刻胶和PI光刻胶是两种不同材料的光刻胶，它们在化学成分、性能和应用方面有所差异。1. 化学成分：PR光刻胶是指以光致聚合物为主要成分的光刻胶，例如苯乙烯基物质，其分子链中含有双键，通过紫外光照射后，发生光致聚合反应。而PI光刻胶是指以聚酰亚胺(Polyimide)为主要成分的光刻胶，其分子结...
PR光刻胶和PI光刻胶是两种不同材料的光刻胶，它们在化学成分、性能和应用方面有所差异。1. 化学成分：PR光刻胶是指以光致聚合物为主要成分的光刻胶，例如苯乙烯基物质，其分子链中含有双键，通过紫外光照射后，发生光致聚合反应。而PI光刻胶是指以聚酰亚胺(Polyimide)为主要成分的光刻胶，其分子结...
曝光、显影和蚀刻后，光掩模坯料成为具有电路图案副本的光掩模。光刻胶涂覆：晶圆被涂覆上一种对光敏感的液体，称为光刻胶。通过将少量光刻胶倒在晶圆中心，同时让晶圆高速旋转，材料会均匀地覆盖整个表面，形成一层薄而均匀的涂层。光刻胶对“光”敏感，并且“抗拒”某些用于去除光刻胶下方材料的化学物质。光掩模...
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pr光刻胶和pi光刻胶有以下区别： 首先，pr光刻胶和pi光刻胶在化学成分上有所不同。pr光刻胶是一种苯环聚合物，而pi光刻胶是一种聚酰亚胺，它们的结构和性质略有差异。其次，pr光刻胶和pi光刻胶在用途上有所区别。pr光刻胶主要用于半导体工业中的光刻技术，例如制造集成电路和平板显示器等。而pi...
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本文针对PI光刻胶的光刻工艺进行研究,包括PI光刻胶的制备、涂覆、预烘、曝光、显影、清洗等过程。 一、PI光刻胶的制备 PI光刻胶的制备一般采用溶解法或乳化法。溶解法是将PI粉末在氮气气氛下溶于甲醇或丙酮等有机溶剂中,加入一定的表面活性剂,并在搅拌和加热条件下使其溶解成为PI溶液。乳化法是将PI颗粒悬浮于...