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1. 设备启动与检查:开启PECVD镀膜设备总电源,检查各系统指示灯是否正常亮起;通过控制系统检查设备参数设置(如温度、压力、气体流量等)是否符合镀膜要求。 2. 装片操作:将待镀膜的衬底轻放于石墨舟或指定承载工具上,注意保持衬底表面朝上且无触碰损伤;将装好衬底的石墨舟推入镀膜室内...
PECVD镀膜设备即等离子体增强化学气相淀积设备,是利用高频电源辉光放电产生等离子体对化学气相沉积过程施加影响的技术。 M82300-3/UM型五管PECVD设备既可用于淀积电池片正面氧化硅减反射膜,也可用于淀积电池片背面钝化膜。 产品特点 硅片尺寸可从166mm兼容到220mm; 单管载片量可到680片,双舟设计; 辅助加热技...
PECVD真空镀膜设备生产建设项目可研报告立项审批报告 中咨国联品牌 北京中咨国联项目管理咨询有限公司 4年 查看详情 ￥80.00万/台 四川成都 四盛科技 PECVD卷绕镀膜机 高阻隔膜连续沉积镀膜设备 在线交易 四盛品牌 成都四盛科技有限公司 4年 查看详情 ￥80.00万/台 四川成都 四盛科技SS-VAC 高阻隔膜连续沉积...
基本参数 在线时间 ≥98%; 设备功率 峰值功率≤280KW,平均功率≤70KW; 设备尺寸 7400mm(不含真空泵)×2110mm×3530mm(L×W×H); 应用范围 M82200-10/UM型PECVD镀膜设备采用直接式等离子体沉积方式,可生产出质量极佳的晶体硅太阳能电池减反射膜,是业内管径、单管产能最大的管式镀膜设备。 版权...
PECVD镀膜设备是一种结合了化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)技术的设备,利用等离子体在低压下沉积薄膜。在设备中,气体被引入真空室中,在等离子体的作用下,气体分解成离子和自由基,并沉积在衬底表面上形成薄膜。这些粒子可以与反应气体发生化学反应,并在衬底表面沉积成薄膜。 二、组...
多功能立式多弧+磁控溅射复合式真空镀膜设备 Multi950 设备位多面体(八面体)结构, 可安装:1套阳极层离子源,1对MF中频磁控溅射阴极; 1对PECVD阴极, 8只可控阴极弧发射源.且安装法兰均为标准型号,实现 离子源,弧与溅射阴极随工艺不同而灵活互换的功能. 设计优势: 1. 安装空间为H 3m X L 5m X W 3m 2. ...
6.2PECVD的工作原理和特点目前太阳能光伏市场上用的PECVD设备,国外的主要有德国centrotherm和日本岛津的镀膜设备;国内的主要有生产型管式PECVD,接下来就该管式PECVD的工作原理、结构性能参数、操作调试过程和维护保养工作做一个详尽的介绍。图6.1为PECVD的结构示意图。化学气相沉积(CVD)是反应气体在一定条件下分解并发生...
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PECVD镀膜设备结合了化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)技术的优点,可在较低的温度下制备优质的薄膜。 PECVD镀膜设备的工作原理是将气体引入真空室中,在等离子体的作用下,气体分解成离子和自由基,并沉积在衬底表面上形成薄膜。反应气体通过电极引入真空室,并在电场的作用下形成等离子体。等离子体中的电子被加热并...