半导体[光刻]-光学邻近效应修正-OPC技术; 光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction),是一种增加光刻工艺分辨率的技术。 在理想的情况下,硅片成像图形应该跟光掩膜上的布局设计完全一样。不幸的是,当光掩膜图形的关键尺寸小于曝光波长的时候,硅片上的成像就会失真,从而与光掩膜的布局图形不是很吻合,产生了图形失真...
其中EsseRBOPC可为各类技术节点提供稳定、准确、高效的工业级别全芯片版图修正方案,以应对在先进制程的半导体工艺中所发生光学衍射而导致的误差,大幅提升芯片良率。 EsseRBAF则能够为工业级芯片版图开发全面、精确的亚分辨率辅助图形,使芯片在光刻工艺中获得更大的工艺窗口,得到更稳定的晶圆成像。 凭借国微芯OPC团队经验丰...
国微芯揭秘OPC技术在光刻工艺中的细微探究 OPC,英文全称为Optical Proximity Correction,指的是光学邻近矫正,同时也是一种光刻增强技术,修正图形产生的畸变。OPC主要在半导体器件的生产过程中使用,目的是为了保证生产过程中设计的图形的边缘得到完整的刻蚀,基于这样的目的,就不得不谈到在现代芯片制造工艺中的重要环节——光...
半导体制造类EDA工具主要包括OPC(Optical Proximity Correction,光学邻近校正)、TCAD(Technology Computer Aided Design,计算机辅助设计工具)、MDP(Mask Data Preparation,光罩数据准备)和DFM(Design for Manufacturing,可制造性设计)等。🔍 OPC技术原理:通过调整光刻掩膜上的图案,补偿光刻过程中由于光源的非理想特性导致的图...
在半导体制造技术中,光刻是一种对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性曝光的技术。不过,由于物理限制(如衍射效应和光学影像形变等),光刻所得到的图形产生圆角及失真,无法制备出与设计完全相符的图形样品。这就需要使用光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction,OPC)技术,以确保光刻图案的可靠性和精确性。
总的来说,OPC在半导体行业中起着关键作用,通过光刻图形的优化和校正,提高芯片的制造精度和可靠性,确保最终产品符合设计要求。随着半导体工艺的不断发展,OPC技术也在不断创新和完善,为芯片制造提供更加精确和可靠的技术支持。 总之,半导体OPC技...
半导体OPC工程师的主要职责包括：1. 依据项目计划和目标，领导OPC技术的开发工作，确保技术进步满足生产需求。2. 主导关键的研发项目，针对OPC和光刻模拟技术进行技术突破，以推进技术创新。3. 编写并提交技术报告和工作报告，确保文档的完整性和可追溯性。4. 协作解决工艺流程中的关键问题，为集成工程师和...
目前,OPC工艺已经成为了半导体制造中不可或缺的一环,并且在每一代芯片制造工艺中都得到了进一步的发展和优化。 四、应用 OPC工艺的应用可以提高芯片的制造精度和可靠性,从而提高芯片的性能和可靠性。同时,OPC工艺还可以减小芯片的功耗和散热压力,提高芯片的工作效率和稳定性。因此,OPC工艺在各种应用领域都有着重要的...
总结起来,光学邻近效应校正(OPC)是半导体制造中的一项关键技术,用于纠正光学近邻效应带来的误差。通过建立模型、生成修正规则、优化光刻胶图案和验证调整,OPC技术可以帮助提高芯片制造的精度和可靠性。随着制造工艺的不断发展,OPC技术的应用将变得越来越重要,为高密度、高性能的芯片制造提供关键支持。©...
在半导体制造技术中,光刻是一种对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性曝光的技术。不过,由于物理限制(如衍射效应和光学影像形变等),光刻所得到的图形产生圆角及失真,无法制备出与设计相符的图形样品。这就需要使用光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction,OPC)技术,以确保光刻图案的可靠性和精确性。