翻译结果1复制译文编辑译文朗读译文返回顶部 溅射,物理气相沉积(PVD)的形式被广泛用于存放铝metallization.It是一种物理过程,位置被驱逐出来金属原子的目标和存款晶圆surface.The先进的磁控溅射方法在原子离子金属等离子体物理气相沉积在射频等离子体电离的金属,以获得良好的台阶覆盖。 翻译结果2复制译文编辑译文朗读译文返回顶...