负显影液一般为KOH或Na2CO3等碱性溶液,其中含有表面活性剂以提高显影液的亲水性,从而使其能够更好地溶解光刻胶。由于正性光刻胶分子较大且具有疏水性,因此需要通过显影液中的表面活性剂来提高其溶解性。 二、NTD光刻胶负显影技术的应用 NTD光刻胶负显影技术的采用,可以实现亮掩模在正胶上实现...
光刻胶旋涂厚度由转速、胶液粘度、环境温湿度三个核心变量决定。实验室环境里每台旋涂机的性能曲线都要单独标定,比如某型号设备在3000转时胶厚1.2μm,每增减500转厚度波动±0.15μm。产线上常用粘度250cP的负性光刻胶,胶瓶开封后必须在48小时内用完,否则溶剂挥发会导致粘度上升5%以上。 环境温湿度调节容易被忽视...
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