产品详细 Nikon NSR 2005i10C 1.Nikon NSR 2005i10C步进式光刻机 光源波长365nm 分辨率优于0.45µm 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域 2.产品详情 主要技术指标 分辨率0.45µm N.A.0.57 曝光光源365nm ...
Nikon NSR 2005i10C步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备,该机型采用先进的步进光刻技术,能够实现高分辨率和高精度的图案转移,广泛应用于集成电路(IC)、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度,Nikon NSR 2005i10C非常适合大批量生产,同时其用户友好的操作界面和高效的自动化...
型号:NSR-2005i10C 新旧程度:8成新 设备所在地:上海 产品数量:1 光刻机:NSR-2005i10C 供应商信息 公司地址中国(上海)自由贸易试验区金海路955弄1号1层西侧统一社会信用代码91310118MA1JLQ9P38 组织机构代码MA1JLQ9P-3注册资本2197.35万人民币 营业期限49110-05-17至无固定期限经营状态存续 ...
陕西光电子先导院科技有限公司NIKON NSR2005i10C型号6寸步进光刻机翻新及采购项目中标结果公示 附件下载,文件请用音频播放器或者360浏览器打开 潜在供应商 省份地区 科 中国科学院光电技术研究所 中标金额: 136.75万元 中标数量: 7 相关产品:光刻机 历史出价:最高34.20万元最低21.20万元平均27.35万元 2024-04-04...
1.Nikon NSR 2005i10C步进式光刻机 光源波长365nm 分辨率优于0.45µm 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域 2.产品详情 主要技术指标 分辨率0.45µm N.A.0.57 曝光光源365nm 倍率5:1 最大曝光现场20mm*20mm ...
Nikon NSR 2005i10C步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备,该机型采用先进的步进光刻技术,能够实现高分辨率和高精度的图案转移,广泛应用于集成电路(IC)、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度,Nikon NSR 2005i10C非常适合大批量生产,同时其用户友好的操作界面和高效的自动化...